CY8540 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm Beschreibung

Unser Siliziumkristallsubstrat (110) 10×10 mm wird präzise aus hochreinem einkristallinem Silizium hergestellt, was eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und geringe Defektdichte gewährleistet. Die kristallografische Ausrichtung (110) bietet einzigartige Vorteile für fortschrittliche Verfahren zur Herstellung von Bauelementen, einschließlich anisotropem Ätzen und epitaktischem Wachstum. Die gleichmäßige Gitterstruktur trägt dazu bei, die Belastung in den Epitaxieschichten zu minimieren, was die Leistung der Bauelemente und die allgemeine Zuverlässigkeit verbessert. Darüber hinaus ermöglichen die glatte Oberfläche und die engen Maßtoleranzen eine nahtlose Integration in ein breites Spektrum von Forschungs- und Industrieanwendungen.

Dieses Substrat wurde nach strengen Qualitätsstandards entwickelt und unterliegt strengen Prüf- und Reinigungsverfahren, um Verunreinigungen zu reduzieren und optimale Waferoberflächen zu erhalten. Ganz gleich, ob Sie neuartige Halbleitermaterialien untersuchen, integrierte Schaltkreise der nächsten Generation entwickeln oder MEMS-Bauteile erforschen, unser Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) 10×10 mm bietet die Präzision, Haltbarkeit und Konsistenz, die für Spitzenergebnisse erforderlich sind.

Silizium-(Si-)Kristallsubstrat (110) 10x10 mm Anwendungen

Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm ist bekannt für seine gleichmäßige kristalline Struktur, gleichmäßige Dotierung und unübertroffene thermische Stabilität. Dieses kompakte Substrat ist in der modernen Elektronik, der Präzisionsoptik und der Materialprüfung sehr gefragt. Mit Eigenschaften wie hoher Reinheit, hervorragender Ladungsträgermobilität und Maßgenauigkeit ist es in verschiedenen Bereichen von zentraler Bedeutung für Innovationen und bahnbrechende Forschungsergebnisse. Es ist auf Zuverlässigkeit ausgelegt und fördert die Leistung von Geräten der nächsten Generation.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Einsatz in Hochtemperatur-Maschinenkomponenten aufgrund der hervorragenden thermischen Beständigkeit und Stabilität

-Anwendung 2: Einsatz in groß angelegten Halbleiterfertigungsprozessen für eine extrem präzise Waferproduktion

2) Anwendungen in der Forschung

-Anwendung 1: Integraler Bestandteil von experimentellen Quantencomputern, bei denen eine kontrollierte Dotierung entscheidend ist

-Anwendung 2: Unverzichtbar für die Entwicklung nanoelektronischer Bauelemente, die die Erforschung neuer Transistorarchitekturen ermöglichen

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: In hochwertiger Unterhaltungselektronik, um die Langlebigkeit und Effizienz der Geräte zu gewährleisten

-Anwendung 2: Einsatz in der Fotovoltaik zur Verbesserung der Leistung von Solarzellen und der Energieumwandlung

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm Verpackung

Jedes 10×10 mm große Silizium-(Si-)Kristallsubstrat (110) ist in einem antistatisch versiegelten Beutel mit Schaumstoffeinlagen geschützt, um mechanische Beschädigungen zu verhindern. Die Verpackung enthält feuchtigkeitsregulierende Trockenmittel, um die Trockenheit zu erhalten und das Kontaminationsrisiko zu verringern. Lagern Sie die Produkte in sauberen, temperaturkontrollierten Umgebungen und schützen Sie sie vor direkter Sonneneinstrahlung. Doppelversiegelung und Vakuumoptionen sind erhältlich, um die Sauberkeit zu erhöhen. Kundenspezifische Beschriftungen, Spezialverpackungen und Mengenanpassungen können auf Anfrage berücksichtigt werden.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste oder kundenspezifisch.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm?

A1: Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) ist bekannt für seine gut definierte kristallografische Ausrichtung, hohe Reinheit und präzise Dotierung. Mit einer Gitterkonstante von etwa 5,431 Å bietet es eine ausgezeichnete mechanische Stabilität, eine Härte von etwa 1150 HV und eine Wärmeleitfähigkeit von 148 W/m-K. Diese Orientierung (110) ist aufgrund ihrer anisotropen elektrischen und optischen Eigenschaften besonders vorteilhaft für bestimmte Geräteanwendungen.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Diese Substrate werden in der Regel mit Reinraumhandschuhen gehandhabt und in einer inerten oder vakuumversiegelten Verpackung gelagert, um Verschmutzung oder Oxidation zu vermeiden. Die Oberflächen können sehr empfindlich gegenüber Kratzern sein, daher ist es wichtig, bei der Reinigung nur nicht scheuernde Materialien zu verwenden. Temperaturschwankungen sollten so gering wie möglich gehalten werden, um Verformungen zu vermeiden, und die Luftfeuchtigkeit muss kontrolliert werden, um eine Feuchtigkeitsaufnahme zu verhindern, die die Oberflächenintegrität des Substrats beeinträchtigen kann.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm?

A3: Für strenge Leistungskriterien erfüllen diese Substrate in der Regel die Anforderungen des Qualitätsmanagementsystems ISO 9001. Viele Lieferanten halten sich auch an SEMI-Normen wie M1 für Silizium-Wafer-Spezifikationen, die eine einheitliche Dicke, Ebenheit und kristallografische Ausrichtung gewährleisten. Routinekontrollen mittels Röntgenbeugung und Oberflächenprofilometrie überprüfen die Einheitlichkeit der Substrate. Darüber hinaus gewährleistet die Einhaltung der RoHS-Richtlinien eine umweltverträgliche Fertigung ohne gefährliche Substanzen wie Blei, Quecksilber oder Kadmium.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) 10x10 mm ist bekannt für seine robuste und dennoch vielseitige Struktur, die es ideal für zahlreiche Hochpräzisionsanwendungen macht. Die (110)-Orientierung bietet einzigartige kristallografische Eigenschaften, die bei bestimmten Transistordesigns eine höhere Ladungsträgerbeweglichkeit ermöglichen und die Oberflächenleitfähigkeit verbessern. Diese spezifische Ausrichtung bietet auch eine verbesserte Gleichmäßigkeit bei der Abscheidung von Dünnschichten und gewährleistet, dass Forscher und Hersteller bei der Entwicklung fortschrittlicher elektronischer und photonischer Geräte zuverlässige Ergebnisse erzielen.

Dank seiner kompakten Größe von 10x10 mm eignet sich dieses Substrat besonders gut für Labortests und kleine Produktionsläufe. Es bietet ein ausgewogenes Verhältnis zwischen Materialeffizienz und Bauelementleistung und ermöglicht eine kostengünstige Prototypenherstellung ohne Abstriche bei der Genauigkeit oder Konsistenz. Seine Fähigkeit, stabile elektrische Eigenschaften unter verschiedenen Umgebungsbedingungen beizubehalten, untermauert seine Rolle in der modernen Halbleiterforschung und in Mikrofertigungsprozessen.

2. Globale Markttrends

Die steigende Nachfrage nach energieeffizienten Technologien und miniaturisierten Komponenten führt zu einem erheblichen Interesse an Silizium(Si)-Kristallsubstraten (110) 10x10 mm. Branchen wie die Mikroelektronik, die Photovoltaik und die Sensorherstellung setzen diese Substrate aktiv ein, um dem wachsenden Bedarf an Hochleistungsgeräten mit geringem Stromverbrauch gerecht zu werden. Da die Halbleiterproduktionsanlagen weltweit expandieren, profitieren die Hersteller dieser Substrate vom Aufbau zuverlässiger Lieferketten und der Versorgung internationaler Märkte, die Wert auf eine präzise kristallografische Ausrichtung und einheitliche Materialeigenschaften legen.

In den letzten Jahren haben gemeinsame Initiativen von Forschungsinstituten, Technologieunternehmen und staatlichen Stellen die Gesamtinvestitionen in die Innovation von Siliziumsubstraten erhöht. Die Zunahme globaler Partnerschaften hat die Erforschung neuartiger Bauteilarchitekturen und Verarbeitungstechniken beschleunigt und letztlich die kommerzielle Lebensfähigkeit kleinformatiger Substrate wie der 10x10 mm (110)-orientierten Siliziumwafer gestärkt. Diese Trends werden sich fortsetzen, da fortschrittliche Industrien kompakte, effiziente Designs bevorzugen, um die sich entwickelnden Anforderungen von Verbrauchern und Industrie zu erfüllen.