CY8536 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm Beschreibung

Unser Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5×5 mm wird sorgfältig hergestellt, um außergewöhnliche Reinheit und kristallographische Qualität zu gewährleisten. Hergestellt aus einkristallinem Silizium, das der (100)-Orientierung entspricht, bietet jedes Substrat eine einheitliche, defektfreie Oberfläche, die sich ideal für die fortgeschrittene Forschung und die Herstellung von Geräten eignet. Die hohe kristalline Perfektion und die konsistente Gitterstruktur ermöglichen eine präzise Kontrolle der Dotierstoffdiffusion, der Schichtabscheidung und anderer wichtiger Halbleiterprozesse.

Diese Substrate entsprechen strengen Industriestandards und werden strengen Qualitätskontrollen unterzogen, um eine geringe Oberflächenrauhigkeit zu gewährleisten und Verunreinigungen zu minimieren. Sie werden häufig in der Mikroelektronik, der Photovoltaik und in Sensoranwendungen eingesetzt, wo zuverlässige Leistung und Skalierbarkeit von größter Bedeutung sind. Ob für das Prototyping oder die Produktion, unser Silizium(Si)-Kristallsubstrat (100) trägt dazu bei, konsistente Ergebnisse zu liefern und neue Entdeckungen und innovative Produktentwicklungen zu unterstützen.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm Anwendungen

Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm zeichnet sich durch seine hohe Reinheit, kristallografische Ausrichtung und hervorragende Wärmeleitfähigkeit aus. Dieses Substrat mit kleinem Formfaktor eignet sich für eine Vielzahl von mikroelektronischen und photonischen Anwendungen und bietet eine stabile Plattform für das Wachstum von Dünnschichten und die Herstellung von Bauelementen. Darüber hinaus gewährleistet seine gleichmäßige Oberflächenqualität präzise Ergebnisse bei komplexen Anwendungen und ermöglicht sowohl der Forschung als auch der Wirtschaft einen Durchbruch.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Die (100)-Ausrichtung rationalisiert die Waferverarbeitung und ermöglicht präzises Ätzen für MEMS und mikrofluidische Geräte.

-Anwendung 2: Die hohe Wärmeleitfähigkeit macht es ideal für die Leistungselektronik und gewährleistet eine effiziente Wärmeableitung in der Großserienfertigung.

2. forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Bietet eine kontrollierte Umgebung für die Untersuchung fortschrittlicher Quantencomputerkomponenten, die minimale Oberflächenfehler erfordern.

-Anwendung 2: Bietet Gleichmäßigkeit, die für Experimente zur Dünnschichtabscheidung unerlässlich ist, und verbessert die Reproduzierbarkeit und Datengenauigkeit in akademischen und Laboreinrichtungen.

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Verbessert die Leistung von Verbrauchergeräten, einschließlich Sensoren und Displays, dank zuverlässiger struktureller Eigenschaften.

-Anwendung 2: Bietet Unternehmen, die integrierte Schaltungen und Elektronik der nächsten Generation entwickeln, gleichbleibende Qualität und geringere Ausfallraten.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm Verpackung

Jedes 5x5 mm Silizium-(Si-)Kristallsubstrat (100) ist in einem versiegelten antistatischen Beutel mit verstärkten Schaumstoffeinlagen zum Schutz vor Stößen und Schlägen verpackt. Die Artikel werden unter feuchtigkeitskontrollierten Bedingungen gelagert, um die Reinheit zu erhalten, während die Vakuumversiegelung eine Kontamination verhindert. Zur Personalisierung sind kundenspezifische Beschriftungen und maßgeschneiderte Einlagen erhältlich. Alle Verpackungskomponenten werden sorgfältig ausgewählt, um die Unversehrtheit des Substrats zu gewährleisten und eine konsistente, qualitativ hochwertige Leistung bei der Ankunft sicherzustellen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Häufig gestellte Fragen zu Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium(Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm?

A1: Silizium (Si)-Kristallsubstrate mit (100)-Orientierung zeichnen sich durch hohe Reinheit, gleichmäßige Kristallinität und hervorragende Wärmeleitfähigkeit aus. Sie besitzen in der Regel einen auf die Dotierung abgestimmten Widerstandsbereich, der eine Feinabstimmung der elektrischen Eigenschaften ermöglicht. Ihre Gitterkonstante beträgt etwa 5,43 Å, und sie weisen eine Bandlücke von etwa 1,12 eV auf. Diese Substrate bieten außerdem eine hervorragende Oberflächenebenheit und minimale Defekte für Präzisionshalbleiteranwendungen.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Aufgrund ihrer Zerbrechlichkeit und der strengen Oberflächenanforderungen müssen Silizium(Si)-Kristallsubstrate (100) 5x5 mm mit Pinzetten oder Vakuumstäben gehandhabt werden, um Verunreinigungen und mechanische Schäden zu vermeiden. Es sollten Handschuhe getragen werden, um das Einbringen von Ölen oder Partikeln zu vermeiden. Die Oberflächen können durch spezielle Schutzfolien geschützt und in sauberen, trockenen Behältern gelagert werden. Temperaturschwankungen müssen auf ein Minimum reduziert werden, um die Dimensionsstabilität zu erhalten und Oxidationsrisiken zu verringern.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Silizium(Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm?

A3: Führende Siliziumsubstrate für die Halbleiterindustrie entsprechen strengen Normen wie den SEMI-Spezifikationen (Semiconductor Equipment and Materials International), die eine definierte Dickentoleranz, Oberflächenreinheit und Genauigkeit der Kristallorientierung gewährleisten. Die ISO 9001-Zertifizierung regelt häufig die allgemeine Fertigungsqualität, während die ISO 14001 das Umweltmanagement betrifft. Zusätzlich kann die Einhaltung der RoHS-Richtlinie (Restriction of Hazardous Substances) erforderlich sein. Die Lieferanten führen in der Regel gründliche Tests auf Waferebene durch, um die Defektdichte, den spezifischen Widerstand und die Gleichmäßigkeit der Dotierung zu überprüfen und eine gleichbleibende Produktleistung zu gewährleisten.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) 5x5 mm ist für seine präzise definierte Gitterstruktur bekannt und bietet eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit. Diese Gleichmäßigkeit ist entscheidend für die Optimierung der Leistung elektronischer Geräte, da sie eine gleichmäßige Leitfähigkeit über das gesamte Substrat gewährleistet. Darüber hinaus bietet die (100)-Kristallausrichtung eine stabile Plattform für das epitaktische Wachstum, was den Entwicklern ermöglicht, hochwertige Grenzflächen und minimale Defektdichten zu entwickeln.

Im Vergleich zu anderen Substratmaterialien weist diese Siliziumkristallscheibe eine hervorragende thermische Stabilität auf, so dass sie rauen Verarbeitungsbedingungen standhalten kann, ohne die strukturelle Integrität zu beeinträchtigen. Der moderate thermische Ausdehnungskoeffizient von Silizium begrenzt zudem die Spannungen bei Temperaturschwankungen, wodurch die Ebenheit des Substrats und die allgemeine mechanische Zuverlässigkeit erhalten bleiben. Durch die Integration dieser Vorteile können Forscher die robusten Eigenschaften des Substrats nutzen, um fortschrittliche Gerätekonfigurationen zu verfeinern.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Dieses 5x5 mm große Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) spielt eine wichtige Rolle in Spitzenbereichen, die eine präzise Kontrolle der Kristallorientierung und Oberflächenqualität erfordern. Hersteller medizinischer Geräte verwenden diese Substrate bei der Entwicklung von Sensormodulen und nutzen das gleichmäßige Kristallgitter zur Verbesserung der Messgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Halbleiterunternehmen setzen diese Substrate auch bei der Herstellung von Mikroprozessoren und Speicherchips ein und profitieren von der zuverlässigen Plattform für die Skalierung von Transistoren und die Leistungseffizienz.

Da das Substrat strenge Anforderungen an die Reinheit und Ebenheit der Oberfläche erfüllt, wird es auch in der Quantencomputerforschung eingesetzt, wo selbst kleinste Unvollkommenheiten die Stabilität von Qubits beeinträchtigen können. In der Luft- und Raumfahrt und im Verteidigungssektor werden diese kristallinen Scheiben für fortschrittliche photonische Geräte verwendet, die Kommunikationssysteme der nächsten Generation unterstützen, die auf eine schnelle und verlustarme Signalübertragung angewiesen sind. Dieses Siliziumsubstrat, das sich in mehreren spezialisierten Bereichen auszeichnet, unterstreicht seine zentrale Rolle bei der Förderung des technologischen Fortschritts.