CY8529 Titaniumdioxid Rutil (TiO2) Einkristall-Substrat (110) 5x5x0,5 mm

Titandioxid Rutil (TiO2) Einkristallsubstrat (110) 5x5x0,5 mm Beschreibung

Einkristallsubstrate aus Titandioxid (TiO₂) in der Rutilphase mit der Orientierung (110) und den Abmessungen 5 × 5 × 0,5 mm bieten außergewöhnliche optische und elektronische Eigenschaften für die Spitzenforschung und die Entwicklung von Geräten. Ihr hoher Brechungsindex, die große Bandlücke und die ausgezeichnete chemische Stabilität machen sie ideal für Anwendungen in der Photokatalyse, Sensorik und Halbleitertechnik. Die (110)-Orientierung fördert zudem ein gleichmäßiges epitaktisches Wachstum, das eine präzise Schichtabscheidung und eine optimierte Leistung in der Dünnschichtforschung gewährleistet.

Jedes Substrat wird nach strengen Qualitätsstandards hergestellt und zeichnet sich durch glatte Oberflächen mit minimalen Defekten und präzisen Maßtoleranzen aus. Diese Liebe zum Detail garantiert nicht nur Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen experimentellen Bedingungen, sondern bietet auch eine hervorragende Reproduzierbarkeit für die Herstellung in großem Maßstab. Durch die Wahl dieser TiO₂ (110)-Substrate können Forscher und Produktentwickler von ihrer bemerkenswerten Leistung profitieren und so die Entwicklung innovativer Technologien vorantreiben.

Titandioxid Rutil (TiO2) Einkristall-Substrat (110) 5x5x0,5 mm Anwendungen

Mit seiner ausgeprägten Rutilstruktur und der präzisen (110)-Ausrichtung bietet das Titandioxid-Einkristallsubstrat einen hohen Brechungsindex, außergewöhnliche Stabilität und einzigartige optische Eigenschaften. Mit einer Größe von 5x5x0,5 mm eignet sich dieses Substrat ideal für fortschrittliche Herstellungs-, Forschungs- und kommerzielle Anwendungen, bei denen es um die Abscheidung von Dünnschichten und epitaktisches Wachstum geht. Die geringe Defektdichte und die einheitliche Oberfläche gewährleisten eine zuverlässige Leistung in unterschiedlichen Umgebungen und ermöglichen innovative Lösungen in verschiedenen Branchen.

1. industrielle Anwendungen

-Dünnschicht-Sensor-Montage: Die große Bandlücke und die hohe Kristallinität des Substrats ermöglichen eine effiziente Signalerkennung in Sensorgeräten.

-Fortschrittliche optische Beschichtungen: Die gleichmäßige Oberfläche und die ausgezeichnete thermische Stabilität des Substrats ermöglichen die präzise Abscheidung von Mehrschichtbeschichtungen für optische Hochleistungssysteme.

2) Forschungsanwendungen

-Studien zu Photokatalysatoren: Die kristalline Rutilphase erleichtert die Erforschung photokatalytischer Reaktionen und trägt so zur Entwicklung sauberer Energie- und Umweltschutztechnologien bei.

-Epitaxiales Wachstum von Oxiden: Seine gleichmäßige Gitterstruktur ermöglicht das Wachstum komplexer Oxidschichten und damit die Grundlagenforschung in der Materialwissenschaft und Festkörperphysik.

3. kommerzielle Anwendungen

-Hochauflösende elektronische Displays: Die geringe Defektdichte des Substrats gewährleistet eine hervorragende Bildschärfe und Langlebigkeit in der Displaytechnologie.

-Abnutzungsresistente Geräteoberflächen: Seine robusten Eigenschaften tragen zu dauerhaften Beschichtungen bei, die Unterhaltungselektronik vor Kratzern und Abrieb schützen.

Titanium Dioxide Rutile (TiO2) Einkristall-Substrat (110) 5x5x0,5 mm Verpackung

Jedes Titandioxid-Rutil (TiO₂) Einkristall-Substrat (110) 5×5×0,5 mm ist sorgfältig in einem statikfreien Beutel verpackt und mit Schaumstoffeinlagen gepolstert, um physische Schäden zu vermeiden. Ein versiegelter, mit Trockenmittel ausgekleideter Behälter sorgt für Trockenheit und Sauberkeit. Um das Kontaminationsrisiko zu minimieren, sollten Sie die Produkte nur in einer sauberen Umgebung handhaben. Unsere Verpackungen können auf Anfrage angepasst werden, um spezielle Beschriftungs- oder Schutzanforderungen zu erfüllen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Titandioxid Rutil (TiO2) Einkristall-Substrat (110) 5x5x0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Titandioxid-Rutil (TiO2) Einkristall-Substrat (110) 5x5x0,5 mm?

A1: TiO2-Rutil-Einkristallsubstrate, die entlang der (110)-Ebene ausgerichtet sind, weisen einen hohen Brechungsindex (~2,6-2,9), eine Bandlücke von etwa 3,0 eV und starke dielektrische Eigenschaften auf. Sie sind chemisch stabil, haben eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und sind thermisch bis zu hohen Temperaturen stabil. Die Härte beträgt typischerweise 6,0 auf der Mohs-Skala, und die gleichmäßige Gitterstruktur des Substrats ermöglicht ein reproduzierbares epitaktisches Filmwachstum, was es ideal für fortschrittliche optische und elektronische Anwendungen macht.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Eine sorgfältige Handhabung ist unerlässlich, um Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen zu vermeiden. Beim Berühren der Substratoberflächen sollten Handschuhe und eine Reinraumpinzette verwendet werden. Lagern Sie das Substrat in einem staubfreien Behälter bei Raumtemperatur, fern von direkter Sonneneinstrahlung oder Feuchtigkeitsquellen. Für den Transport ist es in einer stoßfesten Verpackung zu sichern. Regelmäßige Reinigung mit geeigneten Lösungsmitteln und anschließendes sanftes Trocknen in einer gefilterten Umgebung tragen zur Erhaltung der Oberflächenintegrität bei.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Titandioxid Rutil (TiO2) Einkristallsubstrat (110) 5x5x0,5 mm?

A3: Seriöse Lieferanten halten sich in der Regel an ISO 9001-zertifizierte Qualitätsmanagementsysteme, die Rückverfolgbarkeit, konsistente Fertigung und strenge Prüfprotokolle gewährleisten. Die Substrate werden häufig einer Röntgenbeugung (XRD) und optischen Inspektion unterzogen, um die kristallografische Ausrichtung, Ebenheit und Oberflächenqualität zu überprüfen. Einige Produkte erfüllen auch die RoHS- und REACH-Richtlinien, die bestätigen, dass sie frei von gefährlichen Substanzen sind. Diese Standards garantieren zuverlässige, hochreine Substrate, die für Forschung und industrielle Anwendungen weltweit geeignet sind.

Verwandte Informationen

1. Herstellungsprozess

Für die Herstellung des Titaniumdioxid-Rutil (TiO2)-Einkristallsubstrats (110) mit den Abmessungen 5x5x0,5 mm werden präzisionsorientierte Fertigungstechniken eingesetzt. Der Prozess beginnt mit einem kontrollierten Kristallwachstum, in der Regel unter Verwendung von Hochtemperaturmethoden, die eine einheitliche Rutilphase ergeben. Durch die Überwachung von Temperaturgradienten und Umgebungsbedingungen erreichen die Hersteller ein Substrat mit minimalen Defekten und höchster Homogenität. In dieser Phase wird durch strenge Parameter sichergestellt, dass die kristallografische Ausrichtung (110) erhalten bleibt, was zu gleichbleibenden physikalischen und chemischen Eigenschaften auf jedem Wafer führt.

Thermisch optimierte Trenn- und Polierschritte verfeinern die Oberflächenqualität und -dicke des Substrats weiter. Nach der anfänglichen Trennung vom Bulkkristall entfernen fortschrittliche Poliertechniken mikroskopisch kleine Abnutzungen, was zu einer ultraglatten Oberfläche führt. Dieser umfassende Ansatz garantiert ein äußerst stabiles Substrat, das den hohen Anforderungen spezieller Anwendungen gerecht wird, einschließlich optischer und elektronischer Experimente, bei denen präzise Oberflächenbedingungen von größter Bedeutung sind.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

In den letzten Jahren wurden diese TiO2-Einkristallsubstrate zunehmend für das Prototyping von Geräten im Nanomaßstab, für hochpräzise dielektrische Studien und für optische Systeme der nächsten Generation verwendet. Ihre hervorragende Transparenz im sichtbaren und nahen infraroten Wellenlängenbereich macht sie zu einem hervorragenden Kandidaten für fortschrittliche Photonikprojekte, da sie eine hervorragende Lichtmodulation ermöglichen und die Streuung minimieren. Darüber hinaus macht der hohe Brechungsindex der Rutilstruktur diese Substrate zu einer wertvollen Plattform für komplizierte optische Beschichtungsforschung und Laseranwendungen.

Titanium Dioxide Rutile (110) Substrate sind für ihre beständige mechanische und thermische Leistung bekannt und werden auch im aufkommenden Bereich der quantenbasierten Sensoren nachgefragt. Sie bieten eine stabile Oberfläche für dünne Filme und Epitaxieschichten, die für die Spitzenforschung in den Bereichen Supraleiter und Spintronik unerlässlich sind. Daher schätzen Forscher und industrielle Entwickler diese Substrate gleichermaßen, um innovative Durchbrüche in einer Reihe von High-Tech-Bereichen zu ermöglichen, von der spezialisierten Bildgebung bis zur Präzisionsmesstechnik.