CY8527 Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-Schliff (0001) 10x10x0,5 mm

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-Schnitt (0001) 10x10x0,5 mm Beschreibung

Dieses Quarz-Einkristall-Substrat aus Siliziumdioxid (SiO2), das präzise auf der Ebene des Z-Schnitts (0001) ausgerichtet ist, misst 10×10×0,5 mm und zeichnet sich durch außergewöhnliche Reinheit und fortschrittliche Materialeigenschaften aus. Seine robuste kristalline Struktur bietet eine ausgezeichnete thermische Stabilität, eine geringe thermische Ausdehnung und eine hervorragende chemische Inertheit - Schlüsselfaktoren für eine zuverlässige Leistung in Hochtemperatur- oder korrosiven Umgebungen. Die sorgfältig kontrollierte Dicke und Oberflächenqualität sorgen für einheitliche optische und elektrische Eigenschaften und machen es zu einer idealen Plattform für anspruchsvolle Forschungs- und Herstellungsprozesse.

Dieses Quarzsubstrat wurde entwickelt, um die strengen Industriestandards zu erfüllen, und ist für Anwendungen in der Mikroelektronik, Photonik, Halbleiterfertigung und Sensortechnik sehr begehrt. Die präzise Z-Schnitt-Ausrichtung sorgt für optimale piezoelektrische und optische Eigenschaften und verbessert die Effizienz von Resonatoren, Filtern und Frequenzsteuerungsgeräten. Mit gleichbleibender Qualität und strengen Maßtoleranzen garantiert dieses Substrat hervorragende Ergebnisse sowohl im Labor als auch in der modernen Produktion.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-cut (0001) 10x10x0,5 mm Anwendungen

Einkristallsubstrate aus Quarzglas (0001) mit Z-Schliff werden wegen ihrer außergewöhnlichen thermischen Stabilität, optischen Klarheit und präzisen kristallografischen Ausrichtung geschätzt. Diese einzigartigen Eigenschaften machen sie für eine Reihe von Anwendungen unentbehrlich, von industriellen Hochtemperaturprozessen bis hin zur Spitzenforschung in Optik und Elektronik. Mit einer Größe von 10x10x0,5 mm bieten diese Substrate eine robuste mechanische Festigkeit und eine ultraglatte Oberfläche, die eine zuverlässige Leistung und konsistente Ergebnisse gewährleisten.

1. industrielle Anwendungen

-Prozessüberwachung bei hohen Temperaturen: Dank ihrer hervorragenden thermischen Beständigkeit können diese Substrate auch in rauen Industrieumgebungen eingesetzt werden.

-Elektronikfertigung: Ultraglatte Oberflächen und stabile Ausrichtung erleichtern die zuverlässige und wiederholbare Herstellung von Geräten.

2) Forschungsanwendungen

-Fortschrittliche optische Experimente: Außergewöhnliche Transparenz und minimale Doppelbrechung ermöglichen hochpräzise optische Studien.

-Entwicklung von Nanotechnologien: Die konsistente kristallografische Ausrichtung unterstützt das genaue Wachstum von dünnen Schichten und Strukturen im Nanomaßstab.

3. kommerzielle Anwendungen

-Präzisionssensoren: Die piezoelektrischen und dielektrischen Eigenschaften ermöglichen eine stabile Frequenzsteuerung für Sensorgeräte.

-Unterhaltungselektronik: Langlebige, kratzfeste Oberflächen gewährleisten eine dauerhafte und zuverlässige Leistung in tragbaren Produkten.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-Schnitt (0001) 10x10x0,5 mm Verpackung

Jedes Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat (Z-Schnitt, 0001, 10x10x0,5 mm) ist einzeln in einem antistatischen, staubfreien, mit weichem Schaumstoff ausgekleideten Beutel versiegelt. Für eine optimale Lagerung ist auf eine saubere, temperaturgeregelte Umgebung zu achten, um die Ansammlung von Feuchtigkeit und Partikeln zu vermeiden. Die verpackten Einheiten sind zur einfachen Identifizierung etikettiert und vor versehentlicher Handhabung geschützt. Kundenspezifische Verpackungslösungen, wie z. B. Waferträger und spezielle Merkmale, sind auf Anfrage erhältlich, um projektspezifischen Anforderungen gerecht zu werden.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-Schnitt (0001) 10x10x0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-Schnitt (0001) 10x10x0,5 mm?

A1: Dieses Z-geschnittene Quarzsubstrat bietet eine hervorragende optische Klarheit über einen breiten Wellenlängenbereich, einschließlich Ultraviolett bis Infrarot. Es hat einen sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, eine hohe chemische Inertheit und hervorragende elektrische Isolationseigenschaften. Die kristallografische Ausrichtung (0001) gewährleistet eine präzise Steuerung der anisotropen Eigenschaften. Darüber hinaus weist es eine hervorragende thermische Stabilität, eine hohe Härte und eine minimale Doppelbrechung auf, was es ideal für zahlreiche Anwendungen in der Optik, Elektronik und wissenschaftlichen Forschung macht.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Das Substrat sollte mit Handschuhen in Reinraumqualität gehandhabt werden, um Verunreinigungen oder Kratzer zu vermeiden. Es ist wichtig, eine nicht scheuernde Pinzette oder einen Staubsauger zu verwenden, um die Oberfläche nicht zu beschädigen. Das Material sollte in einer staubfreien Umgebung gelagert werden, vorzugsweise in einem Schutzbehälter oder Waferträger. Übermäßige mechanische Beanspruchung oder Temperaturschwankungen sollten vermieden werden, um die makellose Oberfläche zu erhalten und eine optimale Leistung zu gewährleisten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrate Z-Schnitt (0001) 10x10x0,5 mm?

A3: Diese Substrate erfüllen in der Regel die strengen Anforderungen der ISO 9001 für das gesamte Qualitätsmanagement und werden oft nach den Umweltstandards der ISO 14001 hergestellt. In vielen Fällen erfüllen sie auch die RoHS-Richtlinien, um den Einsatz von gefährlichen Substanzen auf ein Minimum zu reduzieren. Die Hersteller können Zertifizierungen anbieten, die die strenge kristallografische Ausrichtung, den Reinheitsgrad und die Maßgenauigkeit belegen. Darüber hinaus bestätigen Qualitätsprüfungen auf Oberflächenebenheit, Defektdichte und chemische Zusammensetzung die Einhaltung von Branchenstandards.

Verwandte Informationen

1. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat Z-cut (0001) 10x10x0,5 mm wird aufgrund seiner außergewöhnlichen thermischen Stabilität häufig in fortschrittlichen Industrien wie Photonik, Luft- und Raumfahrt und Präzisionsoptik eingesetzt. Die Z-cut (0001)-Ausrichtung bietet eine stabile Plattform für Hochfrequenzresonatoren, optische Filter und spezielle Sensoranordnungen, die eine geringe Wärmeausdehnung und zuverlässige Leistung in schwierigen Umgebungen erfordern.

Bei der Halbleiterherstellung der nächsten Generation ermöglicht diese spezielle Substratabmessung enge Prozesstoleranzen und gewährleistet eine gleichbleibende Geräteleistung und minimalen Materialabfall. Dank seiner hohen chemischen und mechanischen Widerstandsfähigkeit hält es auch aggressiven Verarbeitungsschritten stand und ist damit die erste Wahl für die Herstellung modernster mikroelektronischer und optoelektronischer Komponenten.

2. Forschung und Entwicklung

Umfangreiche Forschungsinitiativen nutzen die einzigartigen physikalischen Eigenschaften des Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrats Z-cut (0001) 10x10x0,5 mm zur Erforschung innovativer Sensoranwendungen. Seine kristallografische Ausrichtung bietet einheitliche piezoelektrische Eigenschaften, die Experimente zur präzisen Schwingungsdämpfung und fortschrittliche Biosensorik-Funktionen in biotechnologischen Labors ermöglichen.

Technische Untersuchungen profitieren auch von der Fähigkeit des Substrats, stabile optische Pfade aufrechtzuerhalten, wenn es unterschiedlichen thermischen Gradienten ausgesetzt ist. Diese Stabilität ist von entscheidender Bedeutung für die Herstellung von Prototypen hochpräziser optischer Systeme, einschließlich Wellenleitern und komplizierter interferometrischer Anordnungen, bei denen die Maßgenauigkeit von größter Bedeutung ist, um wiederholbare, zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten.