CY8521 Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-Schliff (11-20) 10x10x0,5 mm

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-Schliff (11-20) 10x10x0,5 mm Beschreibung

Unser Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristallsubstrat X-cut (11-20) 10×10×0,5 mm bietet außergewöhnliche Reinheit, optische Klarheit und robuste mechanische Festigkeit. Sorgfältig entlang der X-cut (11-20)-Achse ausgerichtet, bietet es gleichbleibende piezoelektrische und elektrooptische Eigenschaften, die ideal für hochpräzise Anwendungen sind. Die hochglanzpolierten Oberflächen und die gleichmäßige Dicke sorgen für minimale Oberflächendefekte und ermöglichen zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei empfindlichen Experimenten.

Dieses Substrat erfüllt strenge Qualitätsstandards, um die grundlegenden Eigenschaften und die Leistung des Kristalls zu erhalten. Ob in Lichtwellenleitern, Verzögerungsleitungen, fortschrittlicher Sensorforschung oder Frequenzsteuerungsgeräten - es liefert stabile und genaue Ergebnisse über eine lange Betriebsdauer. Verlassen Sie sich auf unsere sorgfältig verarbeiteten Quarz-Einkristall-Substrate, um Ihre Forschungs-, Entwicklungs- und Fertigungsprojekte zu optimieren.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) 10x10x0,5 mm Anwendungen

Quarz-Einkristallsubstrat X-cut (11-20) 10x10x0,5 mm ist ein spezielles Struktursubstrat, das die stabilen physikalischen und piezoelektrischen Eigenschaften von Siliziumdioxid nutzt. Dieser präzise ausgerichtete Schnitt bietet hervorragende thermische Stabilität, ausgezeichnete optische Klarheit und einen hohen Q-Faktor für Vibrationsanwendungen. Aufgrund der minimalen Defekte und der gleichmäßigen Kristallstruktur sind X-cut-Quarzsubstrate in verschiedenen Hochfrequenz-, Optik- und Sensortechnologien unverzichtbar.

1. industrielle Anwendungen

-Hochfrequenz-Filter: Die X-Cut-Ausrichtung gewährleistet eine stabile, verlustarme Leistung in anspruchsvollen Industrieumgebungen und ist daher ideal für die Herstellung von SAW-Filtern (Surface Acoustic Wave).

-Hochpräzise Sensoren: Die gleichmäßige Struktur und die thermische Stabilität des Substrats ermöglichen hochpräzise Druck-, Durchfluss- und Schwingungsmessungen in Maschinen.

2) Forschungsanwendungen

-Moderne Optik: Forscher verwenden diese Substrate aufgrund ihrer außergewöhnlichen Transparenz und Oberflächenqualität für die Entwicklung von Lichtwellenleitern.

-Materialwissenschaftliche Studien: Die einkristalline Beschaffenheit erleichtert die systematische Analyse der piezoelektrischen und mechanischen Eigenschaften in spezialisierten Labors.

3. kommerzielle Anwendungen

-RF-Module: Die robusten Eigenschaften mit hohem Q-Faktor unterstützen die Herstellung von zuverlässigen und kompakten Resonatoren für die Unterhaltungselektronik.

-Medizinische Geräte: Die Biokompatibilität und chemische Inertheit des Substrats ermöglichen die sichere und präzise Herstellung diagnostischer Sensoren.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) 10x10x0,5 mm Verpackung

Jedes Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat ist sicher in einem sauberen, gepolsterten Behälter mit stoßdämpfenden Schaumstoffschichten und einer versiegelten Schutzhülle verpackt. Die Substrate werden in trockenen, kontrollierten Umgebungen gelagert, um die Ansammlung von Feuchtigkeit und Partikeln zu verhindern. Um eine minimale Kontamination zu gewährleisten, ist die Verpackung mit antistatischen Materialien ausgestattet. Kundenspezifische Beschriftungen, vakuumversiegelte Optionen und spezielle Behältergrößen sind erhältlich, um spezifischen Herstellungsverfahren und Versandanforderungen gerecht zu werden.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste oder kundenspezifisch.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-geschnitten (11-20) 10x10x0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-geschnitten (11-20) 10x10x0,5 mm?

A1: Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat mit X-cut (11-20)-Ausrichtung weist eine hohe Reinheit und gleichmäßige Kristallinität auf und bietet eine außergewöhnliche thermische Stabilität und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten (~0,55 × 10-⁶ K-¹). Das Material hat eine ausgezeichnete optische Klarheit im UV- bis IR-Bereich, eine hohe Durchschlagsfestigkeit und eine Härte von 7 auf der Mohs-Skala. Dies macht es ideal für hochpräzise optische und elektronische Anwendungen.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Diese Substrate sollten mit Reinraumhandschuhen gehandhabt werden, um Verunreinigungen zu vermeiden. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit harten oder rauen Oberflächen, da Quarz an den Kanten absplittern kann. Lagern Sie jedes Substrat in einem einzelnen Behälter oder einem gepolsterten Halter in einer vibrationsarmen Umgebung. Sorgen Sie für kontrollierte Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen und halten Sie die Substrate von aggressiven Chemikalien fern. Reinigen Sie sie bei Bedarf nur mit zugelassenen, rückstandsfreien Lösungsmitteln.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrate X-cut (11-20) 10x10x0,5 mm?

A3: Diese Substrate entsprechen in der Regel den Qualitätsmanagement-Richtlinien nach ISO 9001, die eine konsistente Herstellung, Rückverfolgbarkeit und Dokumentation der kristallografischen Ausrichtung gewährleisten. Viele Lieferanten halten sich auch an die RoHS- und REACH-Richtlinien und bestätigen damit, dass das Produkt frei von gefährlichen Substanzen ist. Die Qualitätsprüfung umfasst häufig eine strenge Röntgenbeugung (XRD), um die Genauigkeit und Reinheit der Ausrichtung zu bestätigen, sowie Oberflächenqualitäts- und Maßprüfungen, um strenge Toleranzen einzuhalten.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Aufgrund seiner hohen Reinheit und seines einkristallinen Charakters bietet das Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) 10x10x0,5 mm eine hervorragende Stabilität bei unterschiedlichen thermischen und mechanischen Belastungen. Das X-cut-Design minimiert das Risiko kristallographischer Defekte und gewährleistet präzise Ätzraten, wodurch sich das Substrat hervorragend für Anwendungen eignet, die eine extreme Maßgenauigkeit erfordern. Darüber hinaus unterstützt die enge Dickentoleranz des Substrats eine hervorragende optische Klarheit, so dass es eine gleichbleibende Leistung in elektronischen und optischen Hochfrequenzsystemen bietet.

Die sorgfältige Kontrolle der kristallographischen Ausrichtung in der (11-20)-Konfiguration verbessert die Elastizität und die elektrischen Isolationseigenschaften des Substrats weiter. Der außergewöhnlich niedrige thermische Ausdehnungskoeffizient von Quarz bedeutet, dass es schnellen Temperaturschwankungen standhalten kann, ohne die strukturelle Integrität zu beeinträchtigen. Darüber hinaus gewährleistet die einheitliche Dicke von 0,5 mm eine zuverlässige Leistung bei sich wiederholenden Prozessen wie dem Auftragen von Fotolack, der Strukturierung auf Nanoebene und Spin-Coating-Techniken, die in der Spitzenforschung und der industriellen Produktion eingesetzt werden.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Verschiedene Sektoren, von der Luft- und Raumfahrt bis zur Telekommunikation, verlassen sich bei der Entwicklung von Geräten und Systemen der nächsten Generation weitgehend auf dieses Quarzsubstrat mit X-Schliff (11-20). Seine stabilen piezoelektrischen Eigenschaften machen es zu einer hervorragenden Grundlage für Hochfrequenzoszillatoren, Filter und Sensoren, die in der Avionik eingesetzt werden. Da die Datenübertragungsraten immer weiter ansteigen, sind die robusten dielektrischen Eigenschaften des Substrats und die konsistenten Signalübertragungsfähigkeiten von unschätzbarem Wert für den Telekommunikationsbereich, da sie minimale Signalverluste und eine überlegene Langlebigkeit der Geräte gewährleisten.

In sich entwickelnden Bereichen wie der Quanteninformatik und der integrierten Photonik wird dieses präzise Substrat häufig für die Entwicklung spezieller Chips und Lichtwellenleiter eingesetzt. Die hervorragende Oberflächenqualität und die geringe Defektdichte erleichtern die Entwicklung effizienter und kompakter Gerätearchitekturen. Da es ein optimales Gleichgewicht zwischen Steifigkeit und thermischer Stabilität bietet, ist dieses Quarzsubstrat unverzichtbar für Forscher und Industrieexperten, die die Grenzen der Technologie in fortschrittlichen Anwendungen verschieben wollen.