CY8520 Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-geschnitten (11-20) 5x5x0,5 mm

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-Schliff (11-20) 5x5x0,5 mm Beschreibung

Unser Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) wird sorgfältig hergestellt, um eine außergewöhnliche thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und optische Klarheit zu gewährleisten. 5×5×0,5 mm groß, wird jedes Substrat einem strengen Polierprozess unterzogen, um eine minimale Oberflächenrauhigkeit und eine gleichmäßige Dicke zu gewährleisten, was eine präzise Herstellung von Geräten ermöglicht. X-cut-Quarz ist besonders für seine stabilen dielektrischen Eigenschaften und seinen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten bekannt, wodurch es sich ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Optoelektronik, Mikrofluidik und Hochleistungssensorik eignet.

Durch die Einhaltung strenger Qualitätsstandards bieten diese Quarzsubstrate eine zuverlässige Plattform für Forschung und kommerzielle Produktion. Ihre überlegene kristallografische Ausrichtung verbessert die Konsistenz bei fortschrittlichen Prozessen wie der Wellenleiterbildung, frequenzsteuernden Komponenten und speziellen Beschichtungen. Wissenschaftler, Ingenieure und Hersteller können sich darauf verlassen, dass unsere Substrate wiederholbare, hochpräzise Ergebnisse für die Spitzenentwicklung und rationelle Fertigung liefern.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) 5x5x0,5 mm Anwendungen

Siliziumdioxid (SiO2)-Quarz-Einkristallsubstrate mit X-cut (11-20)-Ausrichtung in den Maßen 5x5x0,5 mm zeichnen sich durch außergewöhnliche Stabilität, optische Klarheit und einen hohen Q-Faktor aus, wodurch sie sich hervorragend für fortschrittliche Anwendungen eignen. Ihre geringe Wärmeausdehnung und ihre hervorragenden dielektrischen Eigenschaften ermöglichen eine präzise Steuerung in mikroelektronischen Schaltungen und Resonatoren. Diese Eigenschaften sorgen für Zuverlässigkeit in rauen Umgebungen und gewährleisten eine gleichbleibende Leistung in verschiedenen Branchen und Forschungsbereichen.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Präzise Zeitsteuerungskomponenten in Sensoren und Aktuatoren, die eine stabile Resonanz und minimale Temperaturdrift erfordern

-Anwendung 2: Substrate für mikroelektronische Baugruppen, die hervorragende dielektrische Eigenschaften und geringe Verluste erfordern

-Anwendung 3: Hochfrequenzfilter für raue Umgebungen, die von der außergewöhnlichen Haltbarkeit der Kristalle profitieren

2) Forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Grundlegende Studien zum piezoelektrischen Verhalten für die Entwicklung der nächsten Generation von MEMS

-Anwendung 2: Optische Experimente, die träge, verlustarme Substrate mit hoher Transparenz erfordern

-Anwendung 3: Prototyping photonischer Schaltkreise, bei denen ein konsistenter Brechungsindex für die genaue Lichtausbreitung entscheidend ist

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Bildschirme in der Unterhaltungselektronik oder Sensorgeräte, bei denen Haltbarkeit und Klarheit gefragt sind

-Anwendung 2: Präzisionsuhrgläser, die High-Q-Resonatoren für eine genaue Zeitmessung nutzen

-Anwendung 3: Neue tragbare Geräte, die leichte, stabile und für den Dauerbetrieb geeignete Materialien erfordern

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-geschnitten (11-20) 5x5x0,5 mm Verpackung

Diese Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrate X-cut (11-20) 5×5×0,5 mm sind sorgfältig in Reinraum-Polyethylen versiegelt und mit Schaumstoff gepolstert, um Beschädigungen zu vermeiden. Die Verpackung enthält einen Beutel mit Feuchtigkeitsbarriere, um das Eindringen von Kontamination und Feuchtigkeit zu verhindern. Die Substrate sollten an einem staubfreien, temperaturgeregelten Ort mit minimaler UV-Belastung gelagert werden. Kundenspezifische Abmessungen, Beschriftungen und Großverpackungen sind auf Anfrage erhältlich. Jedes Substrat wird einzeln versiegelt, um die Reinheit zu gewährleisten.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-geschnitten (11-20) 5x5x0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) 5x5x0,5 mm?

A1: Dieses Substrat wird entlang der X-Achse geschnitten, um die kristallografische Ebene 11-20 freizulegen, was konsistente optische und piezoelektrische Eigenschaften gewährleistet. Es bietet eine hohe Wärmeleitfähigkeit, starke chemische Beständigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten. Darüber hinaus eignen sich die hohe Durchschlagsfestigkeit und die ausgezeichnete mechanische Steifigkeit für Anwendungen in der Optik, Elektronik und Mikrofertigung und ermöglichen eine stabile Leistung unter anspruchsvollen Bedingungen.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Behandeln Sie das Quarzsubstrat mit nicht scheuernden Handschuhen, um Verunreinigungen und Fingerabdrücke zu vermeiden. Verwenden Sie eine Pinzette oder reinraumtaugliche Werkzeuge, um Kratzer oder Mikrorisse zu vermeiden. Lagern Sie das Substrat in einer staubfreien, feuchtigkeitsarmen Umgebung bei Raumtemperatur, vorzugsweise in antistatischen Behältern. Überprüfen Sie die Oberfläche regelmäßig auf Verunreinigungen oder Beschädigungen und reinigen Sie sie mit Isopropylalkohol und einem fusselfreien Wischtuch, um die hohe Qualität der Oberfläche zu erhalten.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrate X-cut (11-20) 5x5x0,5 mm?

A3: Diese Substrate fallen in der Regel unter die ISO 9001:2015-Produktionsstandards, die ein gründliches Qualitätsmanagement und Rückverfolgbarkeit gewährleisten. Außerdem erfüllen oder übertreffen sie die RoHS- und REACH-Richtlinien, die gefährliche Stoffe einschränken und die Einhaltung von Umweltvorschriften gewährleisten. Viele Zulieferer halten sich an zusätzliche branchenspezifische Richtlinien, wie z. B. Standards auf Wafer-Ebene und Reinheitsprotokolle. Bei den internen Inspektionen wird fortschrittliche Messtechnik eingesetzt, die enge Toleranzen bei Dicke, Ausrichtung und Oberflächenebenheit für eine gleichbleibende Leistung bestätigt.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Dieses Quarz-Einkristall-Substrat aus Siliziumdioxid (SiO2) zeichnet sich durch eine gleichmäßige kristalline Struktur und eine präzise X-Cut-Ausrichtung (11-20) aus und bietet eine außergewöhnliche thermische Stabilität und einen geringen dielektrischen Verlust. Die Abmessungen von 5x5x0,5 mm bieten eine einheitliche Plattform für komplexe Mikrofabrikationsprozesse und minimieren dehnungsinduzierte Verzerrungen. Die hochreine Zusammensetzung dieses Substrats gewährleistet darüber hinaus ein minimales Kontaminationsrisiko, was für empfindliche elektronische und photonische Anwendungen besonders wichtig ist.

Sorgfältige Herstellungsprozesse führen zu glatten Oberflächen und engen Dickentoleranzen, die eine verblüffende optische Klarheit und hervorragende Signalübertragung ermöglichen. Die Kombination aus chemischer Inertheit und hervorragenden mechanischen Eigenschaften macht dieses X-cut-Substrat ideal für den Einsatz in rauen chemischen Umgebungen. Darüber hinaus unterstützen die robuste Beschaffenheit und die einheitliche Mikrostruktur des Substrats die zuverlässige Leistung der Geräte über eine lange Lebensdauer.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Spektroskopie- und Lasersysteme nutzen häufig die einzigartigen Vorteile dieser X-cut-Quarzsubstrate, um eine hohe Genauigkeit bei der Wellenfrontkontrolle zu erreichen. Die kristalline Gleichmäßigkeit des Substrats verbessert die Effizienz optischer Beschichtungen und gewährleistet eine zuverlässige Leistung über eine Reihe von Umgebungsbedingungen hinweg. Darüber hinaus trägt die niedrige Dielektrizitätskonstante in Telekommunikationsfasernetzen zur Verringerung von Signalverlusten bei und unterstützt die Hochgeschwindigkeitsdatenübertragung.

Auch wachsende Sektoren in der Biotechnologie profitieren von diesen präzisen Quarzsubstraten, insbesondere bei Lab-on-a-Chip-Geräten, bei denen Reproduzierbarkeit und Stabilität entscheidend sind. Forscher verlassen sich auf die nicht reaktive Oberfläche für feines mikrofluidisches Design und verbesserte Bio-Sensorik. Daher ist das 5x5x0,5 mm große Siliziumdioxid (SiO2) Quarz-Einkristall-Substrat X-cut (11-20) nach wie vor eine wichtige Wahl für modernste Instrumentierung und die Herstellung von Geräten der nächsten Generation.