CY8507 LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm

LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm Beschreibung

LAO (LaAlO₃) Lanthanaluminat-Kristallsubstrat (111) 10×10×0,5 mm zeichnet sich durch seine hervorragende Gitteranpassung, hohe Dielektrizitätskonstante und geringe Mikrowellenverluste aus. Dieses Substrat bietet eine stabile, chemisch inerte Plattform, die ein hervorragendes Dünnschichtwachstum unterstützt und die Defektbildung minimiert. Seine robusten mechanischen und thermischen Eigenschaften gewährleisten eine zuverlässige Leistung unter rauen Bedingungen und machen es ideal für Hochtemperaturelektronik und fortschrittliche Forschungsprojekte.

Dieses LAO-Substrat, das in der Entwicklung von supraleitenden Materialien und ferroelektrischen Dünnschichten weit verbreitet ist, erfüllt auch strenge Qualitätsstandards für die Ebenheit der Oberfläche und die kristallografische Präzision. Die polierte Oberfläche und die klar definierte (111)-Orientierung tragen zur Optimierung des Epitaxiewachstums bei, während die engen Maßtoleranzen die Kompatibilität mit verschiedenen Abscheidungstechniken gewährleisten. Jedes Substrat wird einer strengen Prüfung unterzogen, um ein gleichbleibend leistungsfähiges Produkt für modernste Anwendungen zu gewährleisten.

LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm Anwendungen

LAO (LaAlO3) Lanthanaluminat-Kristallsubstrate (111) 10x10x0,5 mm werden wegen ihrer hervorragenden Gitteranpassung, chemischen Stabilität und robusten strukturellen Eigenschaften hoch geschätzt. Diese Eigenschaften ermöglichen ein fortschrittliches Schichtwachstum, eine zuverlässige Herstellung von Bauelementen und eine verbesserte Leistung in verschiedenen Bereichen. Darüber hinaus tragen die glatte Oberfläche und die hohe Dielektrizitätskonstante des Substrats zur Unterstützung von Präzisionsanwendungen bei und machen es zu einer idealen Plattform für industrielle und Forschungsumgebungen.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Aufgrund seiner thermischen Stabilität und starken mechanischen Belastbarkeit wird es als robuste Plattform für elektronische Hochtemperaturkomponenten verwendet.

-Anwendung 2: Ideal für Dünnschichtabscheidungsprozesse in der Halbleiterherstellung, wobei seine nahezu perfekte Gitteranpassung für präzises Schichtwachstum genutzt wird

2) Forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Entscheidend für die Untersuchung supraleitender Dünnschichten, wo seine geringe Defektdichte die Materialreinheit bewahrt

-Anwendung 2: Ermöglicht aufgrund seiner ausgezeichneten kristallinen Struktur und isolierenden Eigenschaften fortgeschrittene Studien zum Magnetowiderstand und zur Spintronik

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Unterstützt die Herstellung von Sensoren und Detektoren für die Unterhaltungselektronik, da es ein stabiles Substrat mit einer glatten Oberfläche bietet

-Anwendung 2: Verwendung in optischen Geräten, wo seine hohe Dielektrizitätskonstante eine verbesserte Leistung und einen geringeren Energieverlust gewährleistet

LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm Verpackung

Jedes LAO (LaAlO3) Lanthanaluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm ist sorgfältig in einem versiegelten, reinraumtauglichen Behälter mit Schaumstoffpolsterung verpackt. Eine spezielle antistatische Hülle hilft, Staubansammlungen und Verunreinigungen zu vermeiden. Die Verpackung ist mit Produktangaben und empfohlenen Bedingungen versehen, die eine konstante Lagerung bei 18-25 °C und geringer Luftfeuchtigkeit gewährleisten. Großbestellungen können kundenspezifisch verpackt werden, wobei zusätzliche Schutzschichten hinzugefügt werden, um spezifische Forschungs- oder Produktionsumgebungen zu erfüllen und gleichzeitig das Risiko von Schäden zu minimieren.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm?

A1: Lanthanaluminat (LaAlO3) ist ein Perowskit-Oxid mit hoher Dielektrizitätskonstante (~24), guter thermischer Stabilität und minimaler Gitterfehlanpassung für verschiedene Anwendungen der Dünnschichtepitaxie. Seine (111)-Orientierung bietet geringe strukturelle Verzerrungen und glatte Oberflächen, die sich ideal für fortgeschrittene Forschung eignen. Dieses 10x10x0,5 mm große Substrat bietet auch eine gute mechanische Härte, die es unter strengen Wachstumsbedingungen stabil macht. Seine ausgezeichnete chemische Homogenität unterstützt eine gleichbleibende Filmqualität.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: LAO (LaAlO3)-Substrate sollten mit Reinraumhandschuhen angefasst werden, um Verunreinigungen und Oberflächenkratzer zu vermeiden. Vermeiden Sie harte Berührungen oder das Fallenlassen des Kristalls, da er unter Belastung zerbrechen kann. Lagern Sie es in einer kontrollierten Umgebung mit minimaler Luftfeuchtigkeit, normalerweise in einem Exsikkator. Halten Sie das Substrat frei von Staub und Ablagerungen und verwenden Sie sanfte, lösungsmittelbasierte Reinigungsprotokolle, um die hochwertigen Oberflächeneigenschaften zu erhalten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für LAO (LaAlO3) Lanthan-Aluminat-Kristallsubstrat (111) 10x10x0,5 mm?

A3: Diese Substrate entsprechen in der Regel der ISO 9001:2015 für das Qualitätsmanagement und erfüllen die gängigen Industriespezifikationen für die kristallografische Ausrichtung und Reinheit. Die Hersteller bieten oft eine Verifizierung der Einkristalle, Prüfungen der Dickengleichmäßigkeit und Messungen der Oberflächenrauheit an, um die Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Eine Zertifizierung durch Dritte kann auch die kristalline Qualität des Substrats bestätigen und seine Eignung für anspruchsvolle Forschungsanwendungen und hochpräzise Dünnschichtabscheidungsprozesse garantieren.

Verwandte Informationen

1. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Modernste Mikroelektronik und Photonik verlassen sich immer wieder auf die bemerkenswerte Leistung von LAO (LaAlO3) Lanthanaluminat-Kristallsubstraten, insbesondere solchen mit (111)-Ausrichtung und einem kompakten Formfaktor von 10x10x0,5 mm. Die ausgezeichnete thermische Stabilität und die günstigen dielektrischen Eigenschaften dieses Substrats machen es zu einer idealen Plattform für Hochfrequenzgeräte und integrierte optische Komponenten, die eine minimale Signalverzerrung und zuverlässige Leistung unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen gewährleisten.

Diese Ausrichtung verbessert außerdem die Kompatibilität des Substrats mit verschiedenen Dünnschichtwachstumstechniken, die bei der Halbleiterherstellung der nächsten Generation eingesetzt werden. Durch eine stabile Gitteranpassung und eine einheitliche Oberflächenstruktur tragen LAO(111)-Substrate zur Herstellung von ultradünnen Hochtemperatursupraleitern, multifunktionalen Sensoren und robusten optischen Filtern bei, die sich für Geräte wie Satellitenkommunikation oder Quantencomputeranwendungen eignen.

2. Vergleichende Analyse mit alternativen Materialien

Als fortschrittliches Oxid-Substrat bietet LAO (111) deutliche Vorteile gegenüber anderen kristallinen Substraten wie SrTiO3 oder MgO, insbesondere in Bezug auf die Gitteranpassung und den Wärmeausdehnungskoeffizienten. Seine ausgeprägte Stabilität in oxidierenden Umgebungen ermöglicht vielfältige epitaktische Wachstumsprozesse, die für die Herstellung von Heterostrukturen in der Hochleistungselektronik und Optoelektronik von entscheidender Bedeutung sind.

Die Verwendung von LAO(111)-Substraten kann zu gleichmäßigeren Dünnschichteigenschaften und einer verbesserten Qualität der Grenzflächen führen, was eine höhere Zuverlässigkeit der Bauelemente und eine längere Lebensdauer zur Folge hat. Aufgrund ihrer spezifischen Abmessungen von 10x10x0,5 mm sind diese Kristalle bei der Herstellung einfacher zu handhaben, was eine geringere Belastung empfindlicher Schichten gewährleistet und Lanthanaluminat zu einer führenden Wahl für spezielle industrielle Anwendungen macht.