CY8300 Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Beschreibung

Diese aus hochwertigem Aluminiumoxid hergestellten Saphir-Kristallsubstrate (Al2O3) der M-Ebene haben einen Durchmesser von 50,8 mm und eine Dicke von 0,5 mm. Die außergewöhnliche Härte, chemische Inertheit und hohe thermische Stabilität von Saphir machen diese Substrate ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Optoelektronik, Halbleiterforschung und fortschrittlichen Sensortechnologie. Die M-Ebenen-Orientierung bietet einzigartige epitaktische Wachstumseigenschaften, die eine präzise Kontrolle der Schichtqualität und der Materialspannung ermöglichen.

Jedes Substrat wird einem strengen Polier- und Prüfverfahren unterzogen, um minimale Oberflächendefekte und eine einheitliche kristallografische Ausrichtung zu gewährleisten. Dieser sorgfältige Qualitätskontrollprozess garantiert eine einheitliche Leistung und erhöht die Zuverlässigkeit der Geräte. Ob für die LED-Produktion, die MEMS-Entwicklung oder optische Beschichtungen, diese Saphirsubstrate bieten eine hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit und erfüllen die strengen Industriestandards für Reinheit und Reproduzierbarkeit.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Anwendungen

Saphirkristallsubstrate aus Aluminiumoxid (Al2O3) mit M-Ebenen-Orientierung und einem Durchmesser von 50,8 mm und einer Dicke von 0,5 mm bieten eine bemerkenswerte Festigkeit, chemische Inertheit und thermische Stabilität. Ihre überragende Härte und optische Transparenz machen sie zu einer idealen Wahl für anspruchsvolle Anwendungen in verschiedenen Branchen. Durch die Nutzung ihrer einzigartigen Eigenschaften können diese Substrate die Leistung, Haltbarkeit und Zuverlässigkeit in Bereichen, die Präzision, hohe Temperaturen und raue Umgebungsbedingungen erfordern, erheblich verbessern.

1. Industrielle Anwendungen

- Anwendung 1: Ideal für die Verpackung von Hochleistungselektronik aufgrund der hervorragenden Wärmeleitfähigkeit und chemischen Stabilität

- Anwendung 2: Geeignet für verschleißfeste mechanische Teile in Umgebungen, die extreme Härte erfordern

2. Anwendungen in der Forschung

- Anwendung 1: Bevorzugtes Substrat für Epitaxiewachstum und Dünnschichtstudien, das präzise Experimente ermöglicht

- Anwendung 2: Wird in der Optik- und Laserforschung verwendet, da es eine hervorragende optische Klarheit und geringe Doppelbrechung aufweist

3. Kommerzielle Anwendungen

- Anwendung 1: Integriert in moderne Anzeigetafeln für Unterhaltungselektronik, die robuste und kratzfeste Oberflächen gewährleisten

- Anwendung 2: Verwendung in optischen Fenstern für Spezialgeräte, die von seiner Transparenz und Haltbarkeit profitieren

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Verpackung

Jedes Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane (50,8 mm Durchmesser, 0,5 mm dick) ist einzeln in einem antistatischen Beutel mit Schutzschaum für Stoßfestigkeit verpackt. Die Verpackungen sollten in einer sauberen, temperaturgeregelten Umgebung gelagert werden, um eine Verunreinigung durch Feuchtigkeit oder Partikel zu vermeiden. Diese Substrate können in Bezug auf Menge oder Beschriftung kundenspezifisch angepasst werden, und für spezielle Anforderungen sind weitere sterile Verpackungsoptionen erhältlich.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A1: Aluminiumoxid (Al2O3) M-Plane Saphir-Substrate sind bekannt für ihre hohe Härte, optische Transparenz und ausgezeichnete chemische Stabilität. Sie weisen eine Mohs-Härte von 9, eine breite Bandlücke (9 eV) und eine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit (etwa 35 W/m-K) auf. Die Orientierung in der M-Ebene sorgt für anisotrope Eigenschaften, die für bestimmte epitaktische Wachstumsprozesse von Vorteil sind. Diese Substrate bieten außerdem eine hervorragende Oberflächenqualität, minimale Gitterfehlanpassungen und eine robuste mechanische Festigkeit, was sie ideal für elektronische und optische Hochleistungsanwendungen macht.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Behandeln Sie diese M-Plane-Saphir-Substrate mit nicht scheuernden Handschuhen, um Verschmutzungen zu vermeiden und die Verunreinigung durch Partikel zu minimieren. Vermeiden Sie direkten Kontakt mit harten Oberflächen, die Kratzer verursachen könnten. Reinigen Sie sie vorsichtig mit geeigneten Lösungsmitteln (z. B. Isopropylalkohol) und stellen Sie sicher, dass die Substrate vor der Lagerung vollständig trocken sind. Lagern Sie sie in Schutzbehältern mit antistatischem Schaumstoff oder in Waferkassetten in einer sauberen Umgebung mit geringer Luftfeuchtigkeit, um Oxidation zu verhindern und die Oberflächenintegrität zu erhalten.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A3: Diese Saphir-Substrate werden in der Regel unter strengen ISO 9001-Qualitätsmanagement-Systemen hergestellt, um konsistente Maßtoleranzen, Oberflächenbeschaffenheit und kristallographische Ausrichtung zu gewährleisten. Sie können auch den ASTM-Normen für Saphir in Halbleiterqualität entsprechen, einschließlich Spezifikationen für Fehlerdichte und Einschlüsse. Häufig werden jeder Charge Konformitätszertifikate beigefügt, die die Spezifikationen des Substrats, die Ausrichtungsgenauigkeit und die Gesamtqualität für anspruchsvolle elektronische und photonische Anwendungen bestätigen.

Verwandte Informationen

1. Maßnahmen zur Qualitätskontrolle

Präzise Prüfprotokolle sind entscheidend für die Überprüfung der Einheitlichkeit und Konsistenz von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstraten, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm. Jedes Substrat wird einer sorgfältigen Oberflächencharakterisierung unterzogen, um die Ausrichtung der M-Ebene zu bestätigen und die Gitterausrichtung für Anwendungen zu gewährleisten, die auf präzise strukturelle Schnittstellen angewiesen sind.

Eine konsequente Überwachung der Dicke und der Ebenheit der Oberfläche ist ebenfalls von entscheidender Bedeutung für die Aufrechterhaltung zuverlässiger Qualitätsstandards. Spezialisierte Messgeräte messen die 0,5 mm Dicke mit hoher Genauigkeit und schützen so vor Abweichungen, die die Leistung der Bauteile in modernen Halbleiter- und Photonik-Anwendungen beeinträchtigen könnten.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Technologische Durchbrüche in der Optoelektronik hängen stark von Substraten mit außergewöhnlicher thermischer und mechanischer Stabilität ab. Das Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane Dia. 50,8 mm x 0,5 mm erfüllt diese Anforderungen, indem es eine robuste Plattform für die Integration komplexer Epitaxieschichten in Laserdioden, Sensoren und anderen Präzisionsgeräten bietet.

Der umfangreiche Einsatz in der Luft- und Raumfahrt sowie in der Hochfrequenzkommunikation zeigt die unvergleichliche Vielseitigkeit dieser Substrate. Ihre Fähigkeit, rauen Betriebsbedingungen standzuhalten, macht sie unverzichtbar für Radarsysteme der nächsten Generation und modernste Satellitentechnologien, bei denen gleichbleibende Leistung und Langlebigkeit von größter Bedeutung sind.