CY8299 Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Beschreibung

Aluminiumoxid (Al₂O₃) M-Plane Saphir-Substrate sind bekannt für ihre hervorragende Wärmeleitfähigkeit, chemische Stabilität und hohe mechanische Festigkeit. Mit einer Größe von 10 × 10 × 0,5 mm weisen diese Substrate eine defektfreie Oberfläche auf, die ein präzises epitaktisches Wachstum moderner Materialien wie III-V-Verbindungen ermöglicht. Die M-Ebenen-Orientierung bietet einzigartige Vorteile, darunter eine geringere Gitterfehlanpassung und eine geringere Belastung während der Epitaxie, was sie zu einer bevorzugten Wahl für optoelektronische Geräte, LEDs und Hochtemperatursensoren macht.

Bei der Herstellung unterliegt jedes Substrat strengen Qualitätsstandards und wird strengen Kontrollen unterzogen, um Maßgenauigkeit und gleichbleibende Oberflächenqualität zu gewährleisten. Diese Substrate bieten nicht nur langfristige Zuverlässigkeit in außergewöhnlich anspruchsvollen Umgebungen, sondern verbessern auch die Leistung der Geräte durch eine minimierte Fehlerdichte. Ob in der Spitzenforschung oder in kommerziellen Anwendungen, Al₂O₃ M-plane Saphir-Substrate bieten die zuverlässige Grundlage, die für Technologien der nächsten Generation benötigt wird.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Anwendungen

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat (Al2O3 M-Plane) ist bekannt für seine bemerkenswerte chemische Stabilität, hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende mechanische Festigkeit. Dieses 10 x 10 x 0,5 mm große Substrat bietet eine vielseitige Basis für zahlreiche Anwendungen in der Hochtechnologie. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner außergewöhnlichen kristallinen Qualität und optischen Transparenz ideal für Forschung, Industrie und Handel, die eine zuverlässige Leistung benötigen.

1. Industrielle Anwendungen

- Herstellung von Hochleistungs-LEDs: Die hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Haltbarkeit des Substrats unterstützen eine effiziente Wärmeableitung und gewährleisten eine stabile Beleuchtung.

- Hochtemperatur-Reaktorkomponenten: Die chemische Inertheit und mechanische Robustheit des Kristalls ermöglichen es, rauen Prozessbedingungen zu widerstehen.

2. Forschungsanwendungen

- Epitaxie-Wachstumsstudien: Die gleichmäßige kristalline Struktur des Substrats hilft Forschern bei der Untersuchung neuartiger Materialschichten und der Optimierung der Dünnschichtabscheidung.

- Entwicklung optischer Sensoren: Die optische Klarheit und Oberflächenstabilität des Substrats ermöglichen eine präzise Erkennung und Messung unter verschiedenen Versuchsbedingungen.

3. Kommerzielle Anwendungen

- Verpackung von Laserdioden: Das hervorragende Wärmemanagement und die Stabilität des Substrats gewährleisten die Langlebigkeit der empfindlichen Diodenkomponenten.

- Abnutzungsresistente Uhrenkristalle: Seine Härte und Kratzfestigkeit sorgen für dauerhafte Klarheit und Haltbarkeit in der Unterhaltungselektronik.

Aluminiumoxid-Saphirglas-Substrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Verpackung

Jedes Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat (Al2O3, M-Ebene) 10 × 10 × 0,5 mm ist in einem antistatischen Waferträger mit Schaumstoffeinlagen zum Schutz vor mechanischen Beschädigungen verpackt. Ein versiegelter, staubfreier Beutel bietet zusätzlichen Schutz vor Kontamination. Lagern Sie das Substrat in einer temperatur- und feuchtigkeitskontrollierten Umgebung, um seine Reinheit zu bewahren. Wir können kundenspezifische Dicken, Kanten oder Formen für unterschiedliche Forschungs- und Herstellungsanforderungen anbieten.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm?

A1: Dieses Substrat wird aus einer einkristallinen Korundstruktur mit einer M-Ebenen-Orientierung hergestellt, die spezifische anisotrope Eigenschaften gewährleistet, die für die Herstellung von Bauelementen von Vorteil sind. Es bietet eine hohe Wärmeleitfähigkeit, eine ausgezeichnete chemische Inertheit und eine hervorragende mechanische Festigkeit mit einer Mohs-Härte von 9. Das Material bietet eine hervorragende optische Durchlässigkeit vom Ultraviolett bis zum mittleren Infrarot und eine minimale Gitterfehlanpassung für die Epitaxie auf Nitridbasis. Es hat eine geringe Oberflächenrauhigkeit und eine präzise Dickentoleranz.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Es ist wichtig, jedes Substrat mit sauberen, fusselfreien Handschuhen anzufassen, um Verunreinigungen oder Kratzer auf der spiegelnden Oberfläche zu vermeiden. Verwenden Sie spezielle Lagerbehälter mit Polstereinlagen, um ein Absplittern an den Kanten zu vermeiden. Halten Sie einen Reinraum oder eine staubkontrollierte Umgebung mit stabiler Temperatur und Luftfeuchtigkeit aufrecht. Verwenden Sie bei der Reinigung stets nicht scheuernde Materialien und vermeiden Sie plötzliche Temperaturschwankungen, die zu thermischen Spannungen führen könnten.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate entsprechen in der Regel den ISO 9001-Richtlinien für das Qualitätsmanagement und gewährleisten Rückverfolgbarkeit und gleichbleibende Leistung. Sie entsprechen häufig den SEMI-Normen für Waferabmessungen und Ebenheitstoleranzen und haben definierte Spezifikationen für die Oberflächenqualität, wie z. B. minimale Kratzer und Vertiefungen. Einige Anbieter liefern zertifizierte Messdaten, die die Genauigkeit der Substratausrichtung, die Gleichmäßigkeit der Dicke und die akzeptablen Kristalldefektwerte für fortschrittliche Bauelementeanwendungen bestätigen.

Verwandte Informationen

1. Herstellungsprozess

Die hohe Reinheit jedes Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrats, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm, wird mit äußerster Präzision hergestellt. Fortschrittliche Kristallzüchtungstechniken wie das Kyropoulos-Verfahren gewährleisten eine gleichmäßige Kristallentwicklung und ermöglichen gleichzeitig eine optimale Kontrolle der Defektbildung. Während dieser Phase werden strenge Parameter überwacht, damit die Ausrichtung der M-Ebene stabil bleibt, was für die Aufrechterhaltung einheitlicher optischer und mechanischer Eigenschaften auf jedem Wafer entscheidend ist.

Um die Qualität und Konsistenz zu unterstreichen, wird das Substrat sorgfältig geschnitten und poliert, um die Abmessungen von 10 x 10 x 0,5 mm zu erreichen, wobei eine einheitliche Dicke und Oberflächenebenheit beibehalten wird. Mehrere Polierschritte mit immer feineren Schleifmitteln tragen dazu bei, eine ultraglatte Oberfläche zu erzielen und Oberflächendefekte zu minimieren, die nachgelagerte Prozesse beeinträchtigen könnten. Das Endergebnis ist ein Substrat, das die strengen Kriterien für die akademische und industrielle Forschung erfüllt, wobei die Zuverlässigkeit für die Herstellung von High-End-Geräten im Vordergrund steht.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Dieses Saphirkristallsubstrat mit M-Ebene ist auf Branchen ausgerichtet, die eine überragende Temperaturtoleranz und chemische Stabilität benötigen, und findet in der Mikroelektronik und Optoelektronik breite Anwendung. Es bietet eine robuste Plattform für das epitaktische Wachstum von Verbindungshalbleitern und anderen Dünnschichten und ermöglicht die Herstellung hocheffizienter integrierter Schaltungen und Sensoren. Seine hervorragenden dielektrischen Eigenschaften erleichtern zudem die Entwicklung fortschrittlicher photonischer Geräte, bei denen es auf minimale Signalverluste ankommt.

Innovative Technologien in der Luft- und Raumfahrt und im Verteidigungsbereich verlassen sich ebenfalls auf die präzisen Eigenschaften von M-Plane-Substraten für ein hervorragendes Wärmemanagement und eine hohe Strahlungsbeständigkeit. Der Formfaktor von 10 x 10 x 0,5 mm gewährleistet die Kompatibilität mit einer breiten Palette von hochmodernen Fertigungsanlagen und ermöglicht rationalisierte Arbeitsabläufe. Folglich bleibt dieses Saphirkristallsubstrat unverzichtbar für bahnbrechende Anwendungen in der Kommunikation der nächsten Generation, Hochleistungselektronik und präzisen optischen Systemen.