CY8298 Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm Beschreibung

Unser Aluminiumoxid (Al2O3) Saphir-Kristallsubstrat - M-Ebene, mit den Maßen 5 x 5 x 0,5 mm, bietet außergewöhnliche mechanische Festigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende chemische Stabilität. Saphir ist für seine ausgezeichneten optischen Eigenschaften bekannt, reduziert Streulicht und verbessert die Signalklarheit, was es zur idealen Wahl für Präzisionsoptik, Laser und optoelektronische Geräte macht. Die Ausrichtung in der M-Ebene ermöglicht außerdem eine ausgewogene Spannungsverteilung, was das Wachstum von Epitaxieschichten in Halbleiter- und Photonik-Anwendungen begünstigt.

Jedes Substrat wird unter strengen Qualitätskontrollen sorgfältig hergestellt, um eine makellose Oberfläche mit minimalen Defekten zu gewährleisten. Es ist auf einen spiegelähnlichen Glanz poliert und zeichnet sich durch geringe Oberflächenrauhigkeit und präzise Maßtoleranzen aus, wodurch die Leistung sowohl für die Forschung als auch für den industriellen Einsatz optimiert wird. Vertrauen Sie auf diese robuste und vielseitige Plattform für Ihr nächstes innovatives Gerät oder Ihre fortschrittlichen Experimente.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm Anwendungen

Aluminiumoxid-Saphir (Al2O3) M-Plane-Substrate bieten eine außergewöhnliche strukturelle Stabilität, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und eine robuste Beständigkeit gegen chemische und mechanische Belastungen. Ihre einzigartige kristallografische Ausrichtung minimiert die Gitterfehlanpassung für bestimmte Epitaxieschichten und ermöglicht so ein qualitativ hochwertiges Filmwachstum. Mit ihrer überragenden Härte und ausgezeichneten Transparenz unterstützen diese Substrate die zuverlässige Leistung in rauen Umgebungen und werden zunehmend in verschiedenen Sektoren eingesetzt, die sowohl langfristige Haltbarkeit als auch präzisionsgefertigte Materialien erfordern.

1. Industrielle Anwendungen

- Anwendung 1: Komponenten für Hochtemperaturöfen, die die thermische und chemische Stabilität des Substrats für anspruchsvolle Produktionsumgebungen nutzen.

- Anwendung 2: Herstellung von Halbleiterbauelementen unter Ausnutzung der M-Ebenen-Orientierung zur Verbesserung der Qualität epitaktischer Dünnschichten.

2. Anwendungen in der Forschung

- Anwendung 1: Laseroptische Experimente, die die optische Klarheit und minimale Doppelbrechung des Kristalls nutzen.

- Anwendung 2: Hochentwickelte Materialuntersuchungen, bei denen die strukturelle und thermische Robustheit genaue, wiederholbare Experimente erleichtert.

3. Kommerzielle Anwendungen

- Anwendung 1: Langlebige optische Fenster für bildgebende High-End-Geräte aufgrund ihrer außergewöhnlichen Härte und chemischen Inertheit.

- Anwendung 2: Kratzfeste Abdeckungen in der Unterhaltungselektronik, die von der zuverlässigen Widerstandsfähigkeit der Saphiroberfläche profitieren.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm Verpackung

Jedes Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat (Al2O3, M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm) ist sorgfältig in einem antistatischen Vakuumbeutel versiegelt und in Schaumstoffeinlagen gepolstert, um Kratzer zu vermeiden. Sie sollten in einer sauberen, trockenen Umgebung bei stabilen Temperaturen gelagert werden, um Verunreinigungen zu vermeiden. Für die Handhabung werden Schutzhandschuhe oder eine Pinzette empfohlen. Kundenspezifische Verpackungen und Beschriftungen sind auf Anfrage für spezielle Versand- oder Brandinganforderungen erhältlich.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm?

A1: Dieses Substrat besteht aus einkristallinem Aluminiumoxid, das eine außergewöhnliche Härte (Rang 9 auf der Mohs-Skala), eine hohe Wärmeleitfähigkeit und eine ausgezeichnete chemische Stabilität aufweist. Seine M-Ebenen-Orientierung sorgt für anisotrope physikalische und optische Eigenschaften, wodurch es sich für fortschrittliches epitaktisches Wachstum eignet. Darüber hinaus ist Saphir aufgrund seines breiten optischen Übertragungsbereichs (UV bis IR) und seiner hohen elektrischen Isolationsfähigkeit ideal für robuste elektronische, optische und MEMS-Anwendungen.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Bei der Handhabung von Saphirsubstraten sollten die Anwender saubere Handschuhe tragen, um Verunreinigungen und mögliche Kratzer auf den polierten Oberflächen zu vermeiden. Verwenden Sie nicht scheuernde Pinzetten oder Saugnäpfe, um mechanische Belastungen zu vermeiden. Lagern Sie die Substrate in sauberen, trockenen Behältern oder Waferträgern bei kontrollierter Raumtemperatur und vor direkter Sonneneinstrahlung geschützt. Die Aufrechterhaltung einer staubfreien Umgebung und die Anwendung antistatischer Verfahren tragen zur Erhaltung der Substratqualität bei und gewährleisten eine zuverlässige Leistung.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm?

A3: Diese Substrate entsprechen in der Regel anerkannten Industriestandards wie ISO 9001 für das Qualitätsmanagement und können mit rückverfolgbaren Materialzertifikaten geliefert werden, die die Reinheit und Ausrichtungsgenauigkeit überprüfen. Die Lieferanten befolgen oft strenge Qualitätskontrollprotokolle, einschließlich beidseitigem Polieren und präziser Dickenkontrolle. Die Einhaltung von RoHS- und REACH-Vorschriften kann ebenfalls von Bedeutung sein, um sicherzustellen, dass das Substrat den Umweltrichtlinien entspricht und für die globalen Produktionsanforderungen geeignet ist.

Verwandte Informationen

1. Maßnahmen zur Qualitätskontrolle

In jeder Produktionsphase werden gründliche Kontrollen durchgeführt, um sicherzustellen, dass das Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat der M-Ebene (5 x 5 x 0,5 mm) die genauen maßlichen und kristallografischen Anforderungen erfüllt. Dazu gehören die Überprüfung der Gleichmäßigkeit des Kristallgitters und die Kontrolle auf Oberflächenfehler, die die Leistung bei Hochpräzisionsanwendungen beeinträchtigen könnten. Durch den Einsatz fortschrittlicher Messinstrumente, wie z. B. optischer Interferometer und Röntgenbeugungsgeräte, können Hersteller selbst geringfügige Abweichungen, die die Gesamtqualität des Substrats beeinträchtigen könnten, genau erkennen.

Umfassende Tests der thermischen, chemischen und mechanischen Eigenschaften garantieren darüber hinaus, dass jedes Saphirkristallsubstrat den Industriestandards entspricht. Solche Bewertungen bestätigen die Temperaturwechselbeständigkeit, die hohe Durchschlagsfestigkeit und die allgemeine Zuverlässigkeit unter anspruchsvollen Bedingungen. Daher können Kunden das Substrat bedenkenlos in Anwendungen integrieren, die eine stabile Leistung erfordern, z. B. Lasersysteme, optoelektronische Geräte und die Herstellung von Halbleiterkomponenten.

2. Vergleichende Analyse mit alternativen Materialien

Im Gegensatz zu verschiedenen quarz- oder siliziumbasierten Substraten weist Aluminiumoxid-Saphir-Kristall eine deutlich höhere thermische Stabilität auf. Dieser Unterschied ist von unschätzbarem Wert für Anwendungen, bei denen Substrate hohen Temperaturen standhalten müssen, ohne sich zu verformen oder ihre strukturelle Integrität zu beeinträchtigen. Darüber hinaus unterstützt die M-Ebenen-Orientierung das laterale Epitaxiewachstum in bestimmten Halbleiterprozessen besser, was einen bemerkenswerten Vorteil darstellt, wenn Präzision und Konsistenz von größter Bedeutung sind.

Aufgrund seiner hohen mechanischen Härte und chemischen Inertheit hebt sich Saphir von Materialien wie Glas oder Quarzglas ab, die anfälliger für Kratzer und Ätzungen sind. Die robuste Beschaffenheit der 5 x 5 x 0,5 mm großen M-Plane-Saphir-Substrate ermöglicht den wiederholten Einsatz unter rauen Bedingungen und verringert die Wahrscheinlichkeit eines Ausfalls bei kritischen Vorgängen. Diese außergewöhnliche Langlebigkeit sorgt dafür, dass sich Branchen, die von Hochenergiephysiklabors bis hin zu fortschrittlichen medizinischen Instrumenten reichen, auf eine optimale Leistung über längere Produktlebenszyklen hinweg verlassen können.