CY8297 Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) Durchm. 50,8 mm x 0,5 mm Beschreibung

Dieses hochreine Aluminiumoxid (Al₂O₃) A-Ebene (11-20) Saphir-Kristallsubstrat bietet außergewöhnliche mechanische Festigkeit, chemische Stabilität und Hitzebeständigkeit in einem präzise gefertigten Wafer. Mit einem Durchmesser von 50,8 mm und einer Dicke von 0,5 mm bietet es eine einheitliche Plattform für das Epitaxiewachstum und ermöglicht gleichbleibende Ergebnisse bei anspruchsvollen Anwendungen in der Halbleitertechnik, Optoelektronik und modernen optischen Geräten. Das sorgfältig ausgerichtete A-Ebenen-Substrat verbessert die Kristallausrichtung und sorgt für eine genaue Schichtabscheidung und verbesserte Bauelementleistung.

Jedes Substrat wird nach strengen Qualitätsstandards hergestellt und durchläuft sorgfältige Polier- und Prüfverfahren, um eine extrem glatte Oberfläche mit minimalen Defekten zu erhalten. Aufgrund seiner Langlebigkeit und Wärmeleitfähigkeit ist es ideal für Hochtemperaturprozesse, einschließlich der LED-Produktion und der Herstellung von Bauelementen auf GaN-Basis. Verlassen Sie sich auf dieses Saphirsubstrat, um zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse zu erzielen und die Grenzen der Spitzenforschung und -entwicklung zu erweitern.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Anwendungen

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate, insbesondere Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, bieten außergewöhnliche mechanische Festigkeit, chemische Stabilität und Wärmeleitfähigkeit. Mit einer makellosen Kristallstruktur und einer gleichmäßigen Oberfläche bieten diese Substrate höchste Präzision und Zuverlässigkeit. Ihre breite optische Transparenz und ihre hervorragenden Isolationseigenschaften machen sie zur ersten Wahl für verschiedene Anwendungen in Industrie, Forschung und Handel.

1. Industrielle Anwendungen

- Hochtemperatur-Werkzeuge und -Vorrichtungen: Ihre außergewöhnliche thermische Stabilität und Härte gewährleisten eine zuverlässige Leistung unter extremen Bedingungen.

- Wafer für die LED-Herstellung: Geringe Defektdichten und robuste Substrate für eine effiziente Lichtemission.

2. Anwendungen in der Forschung

- Fortgeschrittene optische Studien: Nutzung hervorragender Transparenz und einheitlicher Oberflächen für Spektroskopie und Photonik-Experimente.

- Quanten- und Spintronikforschung: Nutzung der Vorteile der hohen strukturellen Präzision für die Herstellung modernster Geräte.

3. Kommerzielle Anwendungen

- Langlebige Zifferblätter und Abdeckungen für Kameraobjektive: Hervorragende Kratzfestigkeit und Klarheit.

- Medizinische Bildgebungskomponenten: Hervorragende chemische Stabilität und optische Qualität für präzise Bildgebungsergebnisse.

Aluminiumoxid-Saphirglas-Substrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Verpackung

Jedes Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat ist einzeln in einem reinraumtauglichen, antistatischen Beutel versiegelt und dann mit Schaumstoffeinlagen gepolstert, um Beschädigungen zu vermeiden. Lagern Sie es in einer Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit und kontrollierter Temperatur, um die Integrität des Kristalls zu erhalten und das Kontaminationsrisiko zu minimieren. Eine innere Schutzschicht schützt vor luftgetragenen Partikeln und Feuchtigkeit. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich vakuumversiegelter Beutel oder spezieller Einsätze, sind erhältlich, um spezifische Handhabungs-, Versand- oder Lagerungsanforderungen zu erfüllen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste oder kundenspezifisch.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A1: Bei diesem Substrat handelt es sich um einen einkristallinen Aluminiumoxid-(Saphir-)Wafer mit der Ausrichtung A-Ebene (11-20). Es weist eine hohe mechanische Härte (9 auf der Mohs-Skala), eine ausgezeichnete optische Transparenz im sichtbaren und infraroten Bereich sowie eine hervorragende chemische Stabilität auf. Mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante und einer robusten Wärmeleitfähigkeit unterstützt es Hochtemperaturprozesse. Der Durchmesser beträgt 50,8 mm und die Dicke 0,5 mm, was eine gleichmäßige Dicke für wissenschaftliche oder industrielle Anwendungen gewährleistet.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Dieses Saphirsubstrat sollte mit Latex- oder Nitrilhandschuhen angefasst werden, um eine Verunreinigung durch Partikel zu verhindern und den direkten Kontakt mit Ölen zu vermeiden. Verwenden Sie nicht-abrasive Werkzeuge, wie z.B. Plastik- oder Teflonpinzetten, um die Oberfläche nicht zu beschädigen. Transportieren und lagern Sie die Substrate in sauberen, trockenen Behältern mit gepolsterten Fächern, um Kratzer zu vermeiden. Setzen Sie sie keinen plötzlichen Temperaturschwankungen aus, um einen Temperaturschock zu vermeiden. Regelmäßige Inspektionen und eine sorgfältige Reinigung mit geeigneten Lösungsmitteln gewährleisten eine lange Haltbarkeit.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A3: Diese Substrate erfüllen die strengen Industrie- und ISO-Normen für Kristallreinheit, Maßhaltigkeit und Oberflächenebenheit. Viele Lieferanten halten sich an die ISO 9001 für das Qualitätsmanagement, um rückverfolgbare Produktionsprozesse zu gewährleisten. Spezielle Zertifizierungen, wie z. B. ASTM E595 für Ausgasung, können bei der Verwendung im Vakuum oder in der Luft- und Raumfahrt Anwendung finden. Messprotokolle überprüfen Ausrichtungstoleranzen, Oberflächenreinheit und minimale Defekte, um die strengen Leistungsanforderungen zu erfüllen.

Verwandte Informationen

1. Industrienormen und Zertifizierungen

Die Einhaltung strenger Richtlinien ist für Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate, wie z.B. das A-plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, für eine gleichbleibende Leistung und Zuverlässigkeit anerkannt werden. Die Einhaltung der ISO 9001-Richtlinien bestätigt eine gut kontrollierte Produktionsumgebung, die sicherstellt, dass jedes Substrat präzise Ausrichtungstoleranzen und Dickenspezifikationen einhält. Darüber hinaus erfordern spezialisierte Zertifizierungen oft eine strenge Bewertung der Ebenheit, der Oberflächenrauhigkeit und der kristallinen Qualität, die alle für die erfolgreiche Funktion des Substrats in anspruchsvollen Anwendungen entscheidend sind.

Da dieses spezielle Saphirkristallsubstrat für anspruchsvolle optische und elektronische Prozesse entwickelt wurde, ist die Einhaltung von Industrienormen wie SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) von größter Bedeutung. Diese Vorschriften enthalten spezifische Kriterien für die Ausrichtungsgenauigkeit und den Grad der Eigenspannung, die den Herstellern helfen, ein gleichbleibend robustes Produkt zu liefern. Durch die Anpassung an solche validierten Benchmarks gewinnt das A-plane (11-20)-Substrat an Akzeptanz in Spitzensektoren, die ein hohes Maß an Qualität, Einheitlichkeit und Produktrückverfolgbarkeit verlangen.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Modernste Unternehmen nutzen die außergewöhnliche mechanische Festigkeit und thermische Stabilität des A-plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Saphir-Kristallsubstrats für die Hochgeschwindigkeits-Optoelektronik und die Herstellung von Leistungsgeräten. Die einzigartige kristalline Ausrichtung und die minimalen Oberflächendefekte ermöglichen den Forschern die Entwicklung von Lasern, Sensoren und photonischen integrierten Schaltungen mit bemerkenswerter Präzision. Die hohe Härte von Saphir unterstützt darüber hinaus empfindliche Dünnfilmschichten, die intensiven Betriebsbedingungen standhalten können und eine solide Grundlage für Geräte bilden, die eine zuverlässige, langfristige Funktionalität erfordern.

Auch die Entwicklungen im Bereich der Ultraviolett-Optik (UV) profitieren von der hervorragenden Transparenz dieses Substrats in einem breiten Spektralbereich. Moderne chirurgische Instrumente und bildgebende Diagnosesysteme verlassen sich auf die überragende optische Klarheit dieses Substrats, um genaue Ergebnisse zu erzielen und eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten. Darüber hinaus beinhalten Halbleitertestprotokolle oft harte Temperaturwechsel, die durch die außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit des Kristalls effizient bewältigt werden. Diese Eigenschaften machen das A-Ebenen-Substrat (11-20) zu einem entscheidenden Vorteil für globale Industrien, die die Grenzen der Technologie erweitern wollen, ohne Kompromisse bei der Qualität oder Widerstandsfähigkeit einzugehen.