CY8296 Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Beschreibung

Unser Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, A-Ebene (11-20), ist ein hochreines, einkristallines Material, das strenge Leistungsanforderungen erfüllt. Saphir (Al2O3) ist bekannt für seine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit, chemische Stabilität und überragende Härte, wodurch es sich ideal für moderne mikro- und optoelektronische Anwendungen eignet. Die Kristallorientierung entlang der A-Ebene (11-20) gewährleistet eine stabile Oberfläche für epitaktisches Wachstum, während die Abmessungen von 10 x 10 x 0,5 mm eine standardisierte Plattform für Forschungs- und Produktionsanforderungen bieten.

Jedes Substrat wird einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen, um eine geringe Oberflächenrauhigkeit, enge Maßtoleranzen und eine minimale Defektdichte zu gewährleisten. Dies gewährleistet gleichbleibende Ergebnisse bei Hochpräzisionsprozessen wie Hochfrequenzgeräten, Sensorentwicklung und Laseroptik. Mit diesen anspruchsvollen Standards liefert unser Al2O3 A-Ebenen-Substrat zuverlässige Leistung für modernste Technologieanwendungen.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Anwendungen

Saphir-Substrate aus Aluminiumoxid (Al2O3) in der A-Ebenen-Ausrichtung (11-20) messen 10 x 10 x 0,5 mm und bieten eine außergewöhnliche thermische und mechanische Stabilität. Ihre höchste Reinheit, ihre geringen dielektrischen Verluste und ihre hervorragende optische Klarheit machen sie ideal für eine Vielzahl von Anwendungen. Im Folgenden finden Sie einige Beispiele dafür, wie diese Substrate in verschiedenen Branchen, Forschungsbereichen und kommerziellen Unternehmen eingesetzt werden.

1. Industrielle Anwendungen

- Anwendung 1: Hochtemperatur-Herstellungsprozesse für Halbleiter, bei denen thermische Stabilität und mechanische Festigkeit die Waferproduktion unterstützen.

- Anwendung 2: Laserkomponenten für industrielles Schneiden und Gravieren, die aufgrund der hervorragenden optischen Klarheit des Kristalls nur minimale Verzerrungen aufweisen.

2. Anwendungen in der Forschung

- Anwendung 1: Substrat für Dünnschichtepitaxiestudien, das eine defektfreie Kristallstruktur bietet, die die Filmqualität verbessert.

- Anwendung 2: Optische Experimente, wie z. B. Spektroskopie, die von dem geringen dielektrischen Verlust und der hohen Transparenz des Substrats profitieren.

3. Kommerzielle Anwendungen

- Anwendung 1: Präzisionsoptik in Kameras und Sensoren, die von der Kratzfestigkeit und Klarheit von Saphir profitieren.

- Anwendung 2: LED- und Display-Technologien, bei denen die starke chemische Inertheit des Substrats die Langlebigkeit der Geräte erhöht.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Verpackung

Jedes A-Ebenen-Saphir-Substrat ist in einem einzeln versiegelten, antistatischen Beutel verpackt und durch Schaumstoffeinlagen geschützt, um Kratzer zu vermeiden. Gründliche Reinigung und Vakuumversiegelung verhindern eine Verunreinigung während des Transports. Für eine optimale Aufbewahrung sollten Sie die Substrate in einer sauberen, feuchtigkeitskontrollierten Umgebung und vor direkter Sonneneinstrahlung geschützt lagern. Kundenspezifische Stärken und Abmessungen können auf Anfrage berücksichtigt werden. Es wird eine minimale Handhabung empfohlen, um die Unversehrtheit der Oberfläche vor der Verwendung zu erhalten.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Ebene (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrat, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm?

A1: Dieses Substrat zeichnet sich durch seine hohe mechanische Härte, Wärmeleitfähigkeit und chemische Inertheit aus. Es bietet hervorragende dielektrische Eigenschaften und eignet sich daher für Hochfrequenzanwendungen. Seine kristalline Struktur entlang der A-Ebene (11-20) gewährleistet eine minimale Gitterfehlanpassung für ein sicheres epitaktisches Filmwachstum. Der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient und die hervorragende optische Transparenz sorgen für eine stabile Leistung in anspruchsvollen Umgebungen und gewährleisten gleichzeitig eine gleichbleibende Dicke und Maßhaltigkeit.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Eine sorgfältige Handhabung ist entscheidend, um Mikrorisse und Oberflächenverunreinigungen zu vermeiden. Tragen Sie stets Reinraumhandschuhe, um zu verhindern, dass Öle oder Partikel mit dem Kristall in Berührung kommen. Verwenden Sie beim Reinigen oder Transportieren der Substrate weiche, nicht scheuernde Materialien. Lagern Sie sie in einer staubfreien, temperatur- und feuchtigkeitskontrollierten Umgebung. Eine einheitliche Verpackung, z. B. in Waffelkisten oder gepolsterten Trägern, schützt vor Kratzern und Verunreinigungen während des Transports und der Lagerung.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Aluminiumoxid-Saphir-Kristallsubstrate, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: Diese Substrate entsprechen in der Regel der ISO 9001 für das Qualitätsmanagement bei der Herstellung, wodurch konsistente Produktionsprozesse und Rückverfolgbarkeit gewährleistet werden. Viele Lieferanten halten sich auch an die ASTM-Spezifikationen für Maßtoleranzen und kristallografische Ausrichtungen. Die zusätzliche Einhaltung der RoHS- und REACH-Vorschriften gewährleistet, dass keine gefährlichen Stoffe enthalten sind. Die Materialien werden häufig auf kristallografische Reinheit und Oberflächenebenheit geprüft und können optischen und messtechnischen Kontrollen unterzogen werden, um die strikte Einhaltung der Industriestandards zu überprüfen.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Aufgrund seiner robusten Kristallstruktur weist das 10 x 10 x 0,5 mm große Al2O3 A-plane (11-20)-Substrat eine hervorragende Widerstandsfähigkeit gegenüber hohen Temperaturen und mechanischen Belastungen auf. Die hexagonale Anordnung der Aluminium- und Sauerstoffatome trägt zu einer überragenden Härte bei und macht es sehr widerstandsfähig gegenüber Kratzern oder Brüchen während der Verarbeitung.

Dieses Substrat zeichnet sich auch durch eine minimale elektrische Leitfähigkeit aus, was ein entscheidender Vorteil bei der Entwicklung von Mikro- und Optoelektronik ist. Darüber hinaus erleichtert seine außergewöhnliche optische Klarheit fortschrittliche optische Experimente und Bildgebungsanwendungen und bietet Forschern und Ingenieuren eine zuverlässige Plattform für hochpräzise Tests.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Die Hersteller optoelektronischer Komponenten verlassen sich bei der Herstellung von Leuchtdioden, Sensorarrays und Hochfrequenztransistoren auf das Kristallsubstrat Al2O3 A-plane (11-20). Die präzisen Abmessungen von 10 x 10 x 0,5 mm ermöglichen ein standardisiertes Bauelementelayout, das die Integration in verschiedene hochmoderne Systeme vereinfacht.

Darüber hinaus profitieren die Luft- und Raumfahrt- sowie die Verteidigungsbranche von der robusten thermischen Stabilität dieses Saphir-Substrats, da sie es für die Entwicklung widerstandsfähiger Messgeräte verwenden, die auch extremen Bedingungen standhalten. Durch die Kombination von hoher Reinheit und gleichmäßiger kristallographischer Ausrichtung ist Saphir zu einem entscheidenden Material für modernste Anwendungen geworden, bei denen Zuverlässigkeit und Leistung an erster Stelle stehen.