CY10327 Zweiseitig poliertes Kalziumfluorid CaF2-Kristallsubstrat (100) 10x10x0,5 mm

Zweiseitiges poliertes Kalziumfluorid-CaF2-Kristallsubstrat (100) 10x10x0,5 mm Beschreibung

Das beidseitig polierte Kalziumfluorid-CaF2-Kristallsubstrat (100) 10x10x0,5 mm wird aus hochreinem CaF2 mit einer (100)-Ausrichtung hergestellt. Das beidseitige Polieren minimiert die Oberflächenrauhigkeit und verringert Streuverluste, was bei hochauflösenden optischen Systemen von entscheidender Bedeutung ist. Die präzisen Abmessungen von 10x10 mm und die Dicke von 0,5 mm gewährleisten die Kompatibilität mit Standardgeräten für die Optik- und Halbleiterverarbeitung und bieten gleichzeitig eine stabile Plattform für die weitere Abscheidung von Dünnschichten.

Zweiseitig poliertes Calciumfluorid CaF2-Kristallsubstrat (100) 10x10x0,5 mm Anwendungen

1.optische Instrumente
- Verwendung als optisches Präzisionsfenster in UV- und Infrarotgeräten zur Verbesserung der Lichtdurchlässigkeit durch Ausnutzung seiner geringen Absorptionseigenschaften.
- Verwendung als Linsensubstrat in hochauflösenden Bildgebungssystemen zur Minimierung der Oberflächenstreuung und Verbesserung der Bildklarheit.

2)Halbleiterherstellung
- Wird als Substrat in Fotolithografiesystemen verwendet, um durch seine gleichmäßige Oberflächenbeschaffenheit eine genaue Musterübertragung zu gewährleisten.
- Wird als Trägerscheibe in Dünnschichtabscheidungsverfahren verwendet, um die Dimensionsstabilität bei Hochtemperaturbehandlungen zu erhalten.

3.wissenschaftliche Forschung
- Verwendung als Probenhalter in Spektroskopieaufbauten zur Reduzierung von Interferenzen und Streulicht durch Ausnutzung der hohen Oberflächenhomogenität.
- Anwendung in Lasersystemkomponenten zur Erzielung einer stabilen Strahlausbreitung durch die präzise kristallografische Ausrichtung.

Zweiseitig poliertes Kalziumfluorid CaF2-Kristallsubstrat (100) 10x10x0,5 mm Verpackung

Das Substrat ist einzeln in antistatischen Trägern verpackt und in mit Schaumstoff ausgekleideten Behältern gesichert, um mechanische Beschädigungen und Verunreinigungen zu vermeiden. Es wird unter kontrollierten, feuchtigkeitsarmen Bedingungen gelagert, um die Integrität der polierten Oberflächen zu erhalten. Zusätzliche kundenspezifische Anpassungen, wie Stickstoffspülung und kundenspezifische Etikettierung, sind möglich, um spezifische Lagerungs- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Wie verbessert das beidseitige Polieren die Leistung des Substrats?
A1: Das beidseitige Polieren verringert die Oberflächenrauheit und minimiert die Streuverluste, was die optische Klarheit und Leistung in hochauflösenden Systemen verbessert. Dieser Prozess ist entscheidend für Anwendungen, die eine präzise Lichtausbreitung und minimale Oberflächenstörungen erfordern.

F2: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Handhabung dieser Substrate zu beachten?
A2: Diese Substrate sollten in einer sauberen Umgebung mit fusselfreien Handschuhen gehandhabt werden, um Verunreinigungen zu vermeiden. Sie müssen unter temperatur- und feuchtigkeitskontrollierten Bedingungen gelagert werden, um die Integrität der polierten Oberflächen und die allgemeine Maßgenauigkeit zu erhalten.

F3: Kann das Substrat für spezifische Verarbeitungsanforderungen angepasst werden?
A3: Ja, es gibt Anpassungsmöglichkeiten für Abmessungen, Oberflächenbeschaffenheit und Verpackung. Es können Anpassungen vorgenommen werden, um spezifischen Anforderungen gerecht zu werden, wie z. B. maßgeschneiderte Dicken oder spezielle Lagerbedingungen, um bestimmten optischen oder Halbleiterprozessanforderungen zu entsprechen.

Zusätzliche Informationen

Calciumfluorid (CaF2)-Substrate werden aufgrund ihres niedrigen Brechungsindex und ihrer minimalen optischen Absorption im Ultraviolett- und Infrarotspektrum häufig in optischen Anwendungen eingesetzt. Die dem Material innewohnende chemische Inertheit und thermische Stabilität machen es zu einer praktikablen Option für hochpräzise optische Komponenten und die Herstellung integrierter Schaltungen.

Fortschritte in der Materialverarbeitung haben die Herstellung von CaF2-Substraten mit kontrollierter kristallographischer Ausrichtung und verbesserter Oberflächenbeschaffenheit ermöglicht. Diese Verbesserungen unterstützen ihre Anwendung in anspruchsvollen Bildgebungssystemen und Halbleiterprozessen, bei denen eine präzise Maßkontrolle und eine geringe Fehlerdichte von größter Bedeutung sind.