AL10263 Saphir-Wafer Al2O3 M Ebene (10-10) 10x10x0,5 mm

Saphir-Wafer Al2O3 M-Ebene (10-10) 10x10x0,5 mm Beschreibung

Dieser einkristalline Saphir-Wafer aus Aluminiumoxid (Al2O3, CAS-Nummer: 1344-28-1) ist entlang der M-Ebene (10-10) präzisionsgeschnitten und hat die Abmessungen 10 mm x 10 mm und eine Dicke von 0,5 mm. Die definierte kristallografische Ausrichtung gewährleistet einheitliche physikalische und optische Eigenschaften, die für die Halbleiterherstellung und andere Substratanwendungen entscheidend sind. Durch die kontrollierten Verarbeitungstechniken werden Mikrodefekte auf ein Minimum reduziert, so dass es sich sowohl für die Forschung als auch für den industriellen Einsatz eignet.

Saphir-Wafer Al2O3 M Plane (10-10) 10x10x0,5 mm Anwendungen

Elektronische Anwendungen
- Verwendung als Substrat in Halbleiterbauelementen zur Erzielung stabiler dielektrischer Eigenschaften durch Ausnutzung seiner präzisen Maßtoleranzen.
- Wird als Basismaterial in LED- und Lasersystemen verwendet, um eine gleichmäßige Lichtübertragung zu gewährleisten, indem die atomar glatte Oberfläche der M-Ebene genutzt wird.

Industrielle Anwendungen
- Wird in Sensormodulen eingesetzt, um durch seine definierten kristallographischen Eigenschaften eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.
- Verwendung als Fensterkomponente in optischen Geräten zur Minimierung der Streuung durch Ausnutzung der chemischen Inertheit und thermischen Stabilität von Saphir.

Saphir-Wafer Al2O3 M Plane (10-10) 10x10x0,5 mm Verpackung

Der Wafer ist einzeln in ein antistatisches Material mit Schaumstoffeinlagen eingewickelt, um Stöße zu absorbieren und mechanische Schäden zu vermeiden. Anschließend wird er in einem sauberen, feuchtigkeitsbeständigen Behälter mit einem Trocknungsmittel versiegelt, um die Feuchtigkeit zu kontrollieren. Die Verpackung ist so konzipiert, dass eine Kontamination während des Transports und der Lagerung minimiert wird. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich Vakuumversiegelung und spezieller Etikettierung, sind je nach den spezifischen Anforderungen des Benutzers erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Was sind die typischen Ebenheitstoleranzen für diesen Wafer?
A1: Der Wafer wird so bearbeitet, dass die Oberflächenebenheit innerhalb von wenigen Mikrometern liegt. Zur Bewertung der Ebenheit werden interferometrische Messungen durchgeführt, um sicherzustellen, dass das Substrat die strengen Anforderungen für lithografische und Präzisionsanwendungen erfüllt.

F2: Kann die kristallografische Ausrichtung über die gesamte Charge hinweg gewährleistet werden?
A2: Ja, jeder Wafer wird einer Röntgenbeugungsanalyse unterzogen, um die Einheitlichkeit der Ausrichtung der M-Ebene (10-10) zu bestätigen. Dieser Schritt der Qualitätskontrolle stellt sicher, dass die gesamte Charge gleichbleibende kristallografische Eigenschaften aufweist, die für hochpräzise Prozesse unerlässlich sind.

F3: Wie verhindert die Verpackung Verunreinigungen und Beschädigungen?
A3: Die Wafer werden einzeln in antistatische Verpackungen eingeschweißt und mit Schaumstoffeinlagen gepolstert. Der feuchtigkeitsresistente Behälter minimiert zusammen mit Trockenmitteln das Risiko von Verunreinigungen und mechanischer Beanspruchung während des Transports und der Lagerung und bewahrt die Oberflächenintegrität der Wafer.

Zusätzliche Informationen

Aluminiumoxid (Al2O3) wird in der Materialwissenschaft wegen seiner hohen Härte, chemischen Inertheit und Wärmeleitfähigkeit geschätzt. Bei der Verarbeitung zu einkristallinen Saphirwafern werden diese Eigenschaften optimiert, um zuverlässige Substrate für elektronische und optische Anwendungen zu erhalten. Die präzise kristallografische Ausrichtung, die durch fortschrittliche Schneidemethoden erreicht wird, ist für die Gewährleistung eines einheitlichen physikalischen und elektronischen Verhaltens in verschiedenen anspruchsvollen Anwendungen unerlässlich.

Fortschritte bei der Kristallzüchtung und der Waferverarbeitung haben die Kontrolle über Defektdichten und Oberflächenbeschaffenheit verbessert. In der Halbleiter- und Optoelektronikindustrie ist es von entscheidender Bedeutung, den Zusammenhang zwischen Kristallorientierung und funktionaler Leistung zu verstehen. Dieses Wissen hilft Materialwissenschaftlern und Ingenieuren bei der Auswahl von Substraten, die bestimmte Leistungskriterien sowohl für die Forschung als auch für industrielle Anwendungen erfüllen.