AL10252 Saphirplättchen Al2O3 R Ebene 10x10x0,5 mm

Saphir-Wafer Al2O3 R-Ebene 10x10x0,5 mm Beschreibung

Sapphire Wafer Al2O3 R plane 10x10x0,5 mm wird aus hochreinem Aluminiumoxid (Al2O3) hergestellt und zeichnet sich durch eine R-Ebenen-Orientierung aus, die eine gleichmäßige Wärmeableitung erleichtert und kristallografische Defekte minimiert. Die Abmessungen (10 mm x 10 mm x 0,5 mm) sind genau eingehalten, um die Integration in Halbleiterverarbeitungsanlagen zu unterstützen. Seine Oberflächenbeschaffenheit und chemische Inertheit machen es zu einem stabilen Substrat für Hochtemperatur- und optische Anwendungen.

Saphir-Wafer Al2O3 R plane 10x10x0,5 mm Anwendungen

Elektronische Anwendungen
- Wird als Substrat in LED- und Halbleitergeräten verwendet, um ein verbessertes Wärmemanagement zu erreichen, indem seine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und geringe Defektdichte genutzt werden.
- Wird als Basisschicht für RF-Komponenten verwendet, um die Zuverlässigkeit der Abmessungen zu gewährleisten und den Signalverlust durch seine glatte Oberflächentopologie zu minimieren.

Industrielle Anwendungen
- Dient als isolierendes Substrat in Hochfrequenzschaltungen, um die Stabilität der Komponenten zu gewährleisten, indem seine chemische Inertheit und gleichmäßige kristallografische Ausrichtung genutzt wird.
- Häufiger Einsatz in Sensormodulen zur Optimierung der Signalintegrität aufgrund seiner minimalen Wärmeausdehnung und strukturellen Einheitlichkeit.

Saphir-Wafer Al2O3 R-Ebene 10x10x0,5 mm Verpackung

Die Wafer werden einzeln in antistatischen Trägern verpackt und in starren, mit Schaumstoff ausgekleideten Behältern versiegelt, um physische Schäden und Verunreinigungen durch Partikel zu vermeiden. Für die Lagerung wird eine kühle, trockene Umgebung mit kontrollierter Luftfeuchtigkeit empfohlen, um die Materialintegrität zu erhalten. Zusätzliche kundenspezifische Optionen, wie z.B. vakuumversiegelte Verpackungen und spezielle Beschriftungen, sind erhältlich, um speziellen Handhabungsanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Wie wirkt sich die Ausrichtung der R-Ebene auf die Leistung des Wafers aus?
A1: Die Ausrichtung der R-Ebene sorgt für eine gleichmäßige kristalline Struktur, die die Wärmeableitung verbessert und Defekte während der Hochtemperaturverarbeitung minimiert. Diese kontrollierte Ausrichtung gewährleistet, dass der Wafer seine strukturellen und thermischen Eigenschaften unter verschiedenen Betriebsbedingungen beibehält.

F2: Welche Maßnahmen zur Qualitätskontrolle werden bei der Herstellung durchgeführt?
A2: SAM setzt fortschrittliche CVD-Techniken in Kombination mit REM-Oberflächeninspektionen ein, um die Konsistenz der Kristallorientierung zu überprüfen und mikroskalige Unvollkommenheiten zu erkennen. Dieses strenge Prüfverfahren unterstützt die Maßgenauigkeit und hohe Gleichmäßigkeit, die für Halbleiteranwendungen entscheidend sind.

F3: Kann dieser Saphir-Wafer in Standard-Halbleiterprozesse integriert werden?
A3: Ja, die Abmessungen von 10x10x0,5 mm wurden so definiert, dass sie mit Standard-Halbleiterverarbeitungsanlagen übereinstimmen. Seine chemische Inertheit und präzise kristallografische Ausrichtung erleichtern die Integration in bestehende Fertigungsabläufe, ohne dass Prozessänderungen erforderlich sind.

Zusätzliche Informationen

Saphirwafer, die aus einkristallinem Al2O3 hergestellt werden, dienen aufgrund ihrer hervorragenden thermischen Stabilität und Isolationseigenschaften als Substrate in verschiedenen technischen Bereichen. Ihre Rolle in optischen und elektronischen Geräten ist oft mit ihrer Fähigkeit verbunden, extremen Verarbeitungsumgebungen ohne signifikante Verschlechterung standzuhalten. Das Zusammenspiel von Kristallorientierung und Defektminimierung ist entscheidend für eine gleichbleibende Leistung.

Das Verständnis der Waferspezifikationen, einschließlich der Abmessungen und der Parameter für die Oberflächenbeschaffenheit, ist für Forscher und Prozessingenieure von entscheidender Bedeutung. Eine detaillierte Materialcharakterisierung ermöglicht die Optimierung der Prozesse zur Herstellung von Bauelementen und trägt so zu einer verbesserten Betriebsleistung in zahlreichen industriellen Anwendungen bei.