Kompakter atmosphärengesteuerter RTP-Ofen 1100C OTF-1200X-4-RTP Beschreibung
Der1100C Compact Atmosphere Controlled RTP Furnace ist ein kompakter Röhrenofen für die schnelle thermische Bearbeitung, der mit einem 4" I.D. Quarzbearbeitungsrohr und Vakuumflanschen ausgestattet ist. Dieser Ofen wurde speziell für das Ausglühen von Halbleiterwafern oder Solarzellen mit einem Durchmesser von bis zu 3" entwickelt und bietet präzise thermische Verarbeitungsmöglichkeiten.
Der OTF-1200X-RTP-4 wird von 8 Einheiten mit 1-kW-Halogenlampen beheizt und hat eine maximale Heizrate von 50 °C/Sekunde. Ein 50-Segment-Präzisions-Temperaturregler mit einer Genauigkeit von +/-1°C ist in den Ofen integriert und ermöglicht eine präzise Steuerung des Aufheizens, Verweilens und Abkühlens bei verschiedenen Prozessschritten.
1100C Kompakter atmosphärengesteuerter RTP-Ofen OTF-1200X-4-RTP Spezifikationen
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Merkmale
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- Doppellagiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung hält die Oberflächentemperatur des Ofens unter 60°C.
- Hochreine Aluminiumoxid-Faserisolierung für maximale Energieeinsparung.
- Geteilter Deckel mit Interlock-Schutz, der die Stromzufuhr unterbricht, wenn der Deckel während des Heizvorgangs geöffnet wird.
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Arbeitstemperatur
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1100℃ (< 10 min)
1000℃, (<20 min)
800℃, (<120 min)
- Kontinuierliche Betriebstemperatur: ≤600℃
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Grundlegende Parameter
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- Heizelement: Thermoelement Typ K
- Durchflussmenge des zirkulierenden Wassers: 0,5 m3/h
- Standard-Durchflussmessbereich: 16-160 ml/min
- Digitales Vakuummeter: 10-4 bis 1000 Torr
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Leistung
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208-240V AC, 12 KW, 50/60 Hz
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Temperaturregelung
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- FA-YD808P-AG Temperaturregler ist im Lieferumfang enthalten.
- Proportional-Integral-Differenzial-Regelung (PID-Regelung) und Auto-Tune-Funktion
- 50 Segmente mit Rampen-, Kühl- und Verweilstufen programmiert
- Eingebauter Übertemperaturalarm und Alarm bei Ausfall des Thermoelementes
- Temperaturregelungsgenauigkeit +/- 1 ºC
- Standard-DB9-Kommunikationsanschluss für PC
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Quarzrohr & Probenhalter
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- Größe des Quarzrohrs: 4.33" O.D x 4.05" I.D x 16.2" Länge.
- Ein AlN-Probenhalter mit 3" Durchmesser zum Glühen von Proben mit einem Durchmesser von bis zu 3" ist im Lieferumfang enthalten.
(AlN hat eine sehr hohe Wärmeleitfähigkeit, die die beste Temperaturgleichmäßigkeit im Probenbereich gewährleistet. Der Probenhalter ist vom Flansch abnehmbar, um den RTP-Ofen für andere Zwecke zu verwenden).
- Optional: 3'' O.D. Dickes Graphitsubstrat (eine Alternative zur AIN-Platte)
- Wahlweise: Graphittiegel (87 mm Außendurchmesser x 71 mm Innendurchmesser x 12 mm Höhe mit Deckel) ist für den 3"-Probenhalter ausgelegt
(Der Tiegel kann auch zu einem RTE-, CSS- oder HPCVD-Ofen mit einem mit SiC beschichteten Graphittiegel umgebaut werden.
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Gesamtabmessungen
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- Flansch (in geschlossenem Zustand): 1350 L * 330 B * 590 H mm
- Flansch (offen): 1350 L * 520 B * 740 H mm
- Größe des Ofens: φ180*190mm
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Netto Gewicht
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70 kg
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Garantie
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- Ein Jahr beschränkte Garantie mit lebenslangem Support.
- ACHTUNG: Schäden, die durch die Verwendung von korrosiven und säurehaltigen Gasen verursacht werden, fallen nicht unter die einjährige eingeschränkte SAM-Garantie.
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Bescheinigung
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- CE-zertifiziert
- Eine NRTL- oder CSA-Zertifizierung ist gegen Aufpreis erhältlich.
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1100C Kompakter atmosphärengesteuerter RTP-Ofen OTF-1200X-4-RTP Anwendungen
- Halbleiterherstellung: Für die Herstellung von Halbleiterbauteilen wie Siliziumwafern, MEMS (Mikro-Elektro-Mechanische Systeme) und Photovoltaikzellen. Vertikale Öfen werden für Prozesse wie Oxidation, Diffusion, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) und Ausglühen eingesetzt.
- Dünnschichtabscheidung: Wird für die Abscheidung dünner Schichten auf Substraten mit Techniken wie CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) und ALD (Atomic Layer Deposition) verwendet. Vertikale Öfen bieten eine kontrollierte Umgebung für eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und -zusammensetzung.
- Herstellung von Solarzellen: Anwendung bei der Herstellung von Solarzellen und Photovoltaikmodulen. Vertikalöfen werden für Prozesse wie Diffusion, Abscheidung von Antireflexionsschichten und Metallisierung verwendet, um die Effizienz und Leistung von Solarzellen zu verbessern.
Kompakter atmosphärengesteuerter RTP-Ofen 1100C OTF-1200X-4-RTP Verpackung
Unser 1100C Compact Atmosphere Controlled RTP Furnace OTF-1200X-4-RTP wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
