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Stanford Advanced Materials
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  • ST0515 Hafniumoxid mit Yttriumoxid-Sputtertarget, HfO2/Y2O3

    • ST0515 Hafniumoxid mit Yttriumoxid-Sputtertarget, HfO2/Y2O3

    Katalog-Nr. ST0515
    Chemische Formel HfO2/Y2O3
    Reinheit 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Formular Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

    SAM's Hafniumoxid mit Yttriumoxid Sputtertargets sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind spezialisiert auf die Herstellung hochreiner PVD-Materialien mit der höchstmöglichen Dichte und der kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngröße für den Einsatz in Halbleiter-, CVD- und PVD-Anwendungen (Display und Optik).

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      Purity

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      2''

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      Thickness

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      • 0.25''
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